[發明專利]一種低濕儲存箱

有效

• 申請號: 201510718998.3
• 申請日: 2015-10-30
• 公開（公告）號: CN105346860B
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發明（設計）人: 郭輝;陳斌;胡樹
• 申請（專利權）人: 深圳市新綸科技股份有限公司
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供一種低濕度存儲箱，包括儲存箱主體、與儲存箱主體相連的氣體供應裝置和用于測量、顯示儲存箱主體內的濕度濕度計，箱內為微正壓，箱門開啟后箱內濕度波動小；且由于采用氣體置換濕度高的空氣，能迅速恢復箱體內的濕度，并長期將箱內濕度控制在RH5％以下；且；儲存箱輕便、剛性高，還具有內部可視性，操作方便，使用壽命長。

技術領域

本發明涉及一種潔凈室用儲存箱，尤其涉及一種濕度可控的儲存箱。

背景技術

伴隨著晶元(wafer)生產的微細化、高集成化的發展，對制造環境(潔凈室)的要求越來越高，潔凈室的濕度一般在40％～55％RH之間，如此高的濕度雖然可以有效預防靜電產生，然后也給部分元器件在生產過程中的儲存帶來極大的不便：(1)如環氧類樹脂制成的中間產品在高濕度環境下容易收縮或膨脹，對于高精密的元件，些許膨脹或收縮都可對成品率造成很大的影響；(2)如晶片上的金屬線路在氧氣和濕氣存在環境下容易被氧化，最常見的就是在焊接區域的表面產生一層氧化鋁，嚴重時，該焊接區域會變色或銹蝕。

針對此問題，市面上出現了各式各樣的防潮箱，防潮箱結構各異，普遍采用除濕部件，其濕度僅在一定范圍內可調節，但難以調至5％RH以下，如專利號為200810212554.2的中國專利公開了一種片材進給器，進給器設置有一個熱再生型除濕部件來調節濕度，其濕度很難降至5％RH以下。為此，開發了極低濕干燥柜，在柜內設置若干個除濕主機，其通過化學補位吸濕控制柜內濕度，濕度可達到5％RH以下。但是該極低濕干燥柜存在以下問題：(1)由于柜內為微負壓，一旦打開柜門，外部環境的高濕度(40％～55％RH)空氣迅速進入并充滿柜內，柜內濕度驟升，恢復至5％RH以下耗時長(至少5h以上)；而在晶元(wafer)生產工序中，儲存柜柜門開啟頻繁，開柜門間隔時間可能為2-3h，如此長的平衡時間給生產帶來不便；(2)除濕主機比較昂貴，所以干燥柜也比較昂貴，且除濕主機使用壽命有限，更換成本較高；(3)該極低濕干燥柜主材為鋼鐵，及其笨重，由于晶元(wafer)行業使用的除濕柜在生產工序中常需移動，極為不便。綜上原因，該極低濕干燥柜不適于晶元(wafer)行業應用。

發明內容

本發明為解決現有技術中儲存箱內濕度難以達到5％RH、可移動性差且平衡時間長的難題，提供一種濕度可控制在5％RH以下、輕便、且可快速平衡的低濕度儲存箱。

為解決以上技術問題，本發明提供一種低濕儲存箱，包括：

——儲存箱主體；

——濕度計，其用于測量和顯示儲存箱主體內的濕度；

所述低濕度儲存箱設置有進氣孔和排氣孔；

所述儲存箱主體還連接有氣體供應裝置，為儲存箱提供氣源；

所述儲存箱主體設置有N扇用于開關和閉合的箱門；

所述儲存箱內從下往上依次設置有第一基板……第N基板，N為大于等于1的整數；

所述基板按照固定的間隔設置，優選按照等距設置；

所述儲存箱主體的內壁上以相對的方式設置有N組成對的支持部件；

所述支持部件可為內嵌在主體內壁上的凹槽；

所述基板上設置有至少一個通孔；

所述進氣孔設置在儲存箱主體的后壁或側壁的一端，其水平位置低于第一基板；所述進氣孔通過進氣管連接氣體供應裝置；

優選所述氣體供應裝置和進氣孔之間設置有調節閥；進一步優選所述調節閥和進氣孔之間還設置有壓力計；

離進氣孔較遠的所述側壁上設置有氣流夾層，其通過側壁上的通孔與儲存箱主體聯通。

優選所述氣流夾層為豎直設置，進一步優選所述氣流夾層的下端不高于第一基板的水平位置，上端高于儲存箱主體1的頂壁；