[發明專利]COA型陣列基板及其制作方法在審
| 申請號: | 201510645537.8 | 申請日: | 2015-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN105353570A | 公開(公告)日: | 2016-02-24 |
| 發明(設計)人: | 沈嘉文 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | coa 陣列 及其 制作方法 | ||
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種COA型陣列基板及其制作方法。
背景技術
平面顯示器件具有機身薄、省電、無輻射等眾多優點,得到了廣泛的應用?,F有的平面顯示器件主要包括液晶顯示裝置(LiquidCrystalDisplay,LCD)及有機發光二極管顯示裝置(OrganicLightEmittingDisplay,OLED)。
現有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示器,其包括液晶顯示面板及背光模組(backlightmodule)。通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF,ColorFilter)、薄膜晶體管基板(TFT,ThinFilmTransistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC,LiquidCrystal)及密封膠框(Sealant)組成。
現有的液晶顯示裝置大多數是在彩膜基板中設置彩色光阻層,以彩色光阻層過濾產生紅(R),綠(G),藍(B)三原色,再將三原色以不同的比例混合而生成各種色彩,來顯示彩色圖像。隨著信息技術發展,對顯示圖像的顯示裝置的各種需求也在增加。高透過率、低功耗、成像質量佳等也成為人們對顯示裝置的要求。傳統的平面顯示裝置采用的紅(R),綠(G),藍(B)三原色系統的穿透率及混光效率都比較低,混合而成的白光顯色性能較弱,導致顯示裝置的能耗較大。因而,提出了在傳統的紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)子像素的基礎上,添加一個白色(W)子像素,構成RGBW四色顯示裝置,可以提高穿透率和顯示亮度,降低顯示能耗。
COA(ColorfilterOnArray)是一種將彩色光阻層制備于陣列基板上的技術。請參閱圖1,圖1為現有的一種RGBW模式的COA型陣列基板,該陣列基板包括:基板100、設于基板100上的TFT層200、設于所述TFT層200上的彩色光阻層300、及設于所述彩色光阻層300上的像素電極400,所述彩色光阻層300包括數個陣列排布的:紅色光阻塊301、綠色光阻塊302、藍色光阻塊303、及透明光阻塊304。該陣列基板采用RGBW四色顯示技術,雖然能夠提高穿透率和顯示亮度,但是由于紅、綠、藍三色光的混色光為白色光,因此會降低顯示畫面的對比度,在顯示灰階為0的全暗畫面時,會存在漏光的問題。
CMY模型是采用青色(Cyan,C)、品紅色(Magenta,M)、黃色(Yellow,Y)三種基本顏色按一定比例合成顏色的方法,在CMY模型中,青色、品紅色、黃色三種顏色混色時顯示黑色。
發明內容
本發明的目的在于提供一種COA型陣列基板,能夠在不降低對比度的前提下,提升面板的穿透率和亮度,且避免漏光的問題。
本發明的目的還在于提供一種COA型陣列基板的制作方法,該方法工藝簡單,制得的COA型陣列基板能夠在不降低對比度的前提下,提升面板的穿透率和亮度,且避免漏光的問題。
為實現上述目的,本發明提供一種COA型陣列基板,包括:基板、設于所述基板上的TFT層、設于所述TFT層上的彩色光阻層、及設于所述彩色光阻層上的像素電極;
所述基板包括呈陣列排布的數個子像素區域,所述彩色光阻層包括對應數個子像素區域的數個色阻塊,所述數個色阻塊包括品紅色光阻塊、青色光阻塊、黃色光阻塊、及透明光阻塊,在白光照射下,所述品紅色光阻塊、青色光阻塊、黃色光阻塊、及透明光阻塊分別透射出品紅色、青色、黃色、及白色光。
所述TFT層包括對應數個子像素區域的數個TFT,所述TFT包括:設于所述基板上的柵極、設于所述柵極金屬層及基板上的柵極絕緣層、設于所述柵極絕緣層上的半導體層、及設于所述半導體層上的源極與漏極。
所述彩色光阻層上對應所述漏極上方設有過孔,所述像素電極通過該過孔與漏極相接觸。
所述彩色光阻層中的數個色阻塊構成多個重復排列的像素單元,每個像素單元包括左到右依次排列的品紅色光阻塊、青色光阻塊、黃色光阻塊、及透明光阻塊。
所述像素電極的材料為ITO。
本發明還提供一種COA型陣列基板的制作方法,包括如下步驟:
步驟1、提供一基板,所述基板包括呈陣列排布的數個子像素區域,在所述基板形成TFT層;
步驟2、在所述TFT層上制作彩色光阻層,所述彩色光阻層包括對應數個子像素區域的數個色阻塊,所述數個色阻塊包括品紅色光阻塊、青色光阻塊、黃色光阻塊、及透明光阻塊;
步驟3、在所述彩色光阻層上形成像素電極。
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