[發明專利]晶片清洗檢查一體機

在審

• 申請號: 201510622832.1
• 申請日: 2015-09-25
• 公開（公告）號: CN105225988A
• 公開（公告）日: 2016-01-06
• 發明（設計）人: 戚林
• 申請（專利權）人: 江蘇中科晶元信息材料有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 陸華君

1.一種晶片清洗檢查一體機，其特征是，包括燒杯臺(1)、清洗臺(2)以及檢查臺(3)，所述燒杯臺(1)上放置有燒杯(11)，所述清洗臺(2)上設置有第一清洗噴頭(21)，所述檢查臺(3)上設置有強光燈(33)和吹風頭(32)；

所述清洗臺(2)上設置有用于控制第一清洗噴頭(21)的第一開關，所述檢查臺(3)上設置有用于控制強光燈(33)的第二開關和用于控制吹風頭(32)的第三開關。

2.根據權利要求1所述的晶片清洗檢查一體機，其特征是，所述檢查臺(3)上還設置有第二清洗噴頭(31)以及用于控制第二清洗噴頭(31)的第四開關。

3.根據權利要求2所述的晶片清洗檢查一體機，其特征是，所述第一開關為腳踏開關，第一腳踏開關設置在清洗臺(2)的下方；所述第二開關、第三開關為腳踏開關，第二腳踏開關和第三腳踏開關設置在檢查臺(3)的下方；所述第四開關為腳踏開關，第四腳踏開關設置在檢查臺(3)的下方。

4.根據權利要求1所述的晶片清洗檢查一體機，其特征是，所述的燒杯臺(1)位于清洗臺(2)的上方。

5.根據權利要求1所述的晶片清洗檢查一體機，其特征是，所述檢查臺(3)位于清洗臺(2)的左側或者右側。