[發明專利]一種耐高低溫沖擊的長波紅外光學薄膜的制備方法在審
| 申請號： | 201510599653.0 | 申請日： | 2015-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN105274477A | 公開（公告）日： | 2016-01-27 |
| 發明（設計）人： | 董茂進;王多書;熊玉卿;王田剛;王濟洲;蔡宇宏;徐嶺茂;李凱朋 | 申請（專利權）人： | 無錫泓瑞航天科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/26 | 分類號： | C23C14/26;C23C14/16;C23C14/06;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人： | 李愛英;仇蕾安 |
| 地址： | 214000 江蘇省無錫市無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 低溫 沖擊 長波 紅外 光學薄膜 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種耐高低溫沖擊的長波紅外光學薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一、對鍺基片分別采用分析純的鹽酸浸泡、去離子水沖洗、分析純的丙酮超聲清洗和分析純的乙醇超聲清洗；
步驟二、將清洗后的鍺基片放入鍍膜機中，然后對鍍膜機抽真空至3.0～5.0×10-3Pa，在抽真空的同時開啟加熱系統，加熱至150～180℃，當真空度和溫度均達到要求時，使用鍍膜機上的霍爾離子源轟擊鍺基片，活化鍺基片的表面；
步驟三、采用電阻蒸發方法在活化后的鍺基片表面鍍制一層均勻鍺薄膜，鍺薄膜厚度為10～30nm；
步驟四、采用電阻蒸發方法在鍺薄膜上表面鍍制長波紅外光學薄膜。
2.如權利要求1所述的一種耐高低溫沖擊的長波紅外光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述長波紅外光學薄膜為由碲化鉛和硫化鋅組成的增透膜、干涉截止膜或多半波膜。
3.如權利要求1所述的一種耐高低溫沖擊的長波紅外光學薄膜的制備方法，其特征在于，步驟一具體為：對鍺基片先采用分析純的鹽酸浸泡10～20min，再用去離子水沖洗3～5遍；然后采用分析純的丙酮超聲清洗10～20min，采用分析純的乙醇超聲清洗10～20min。
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