[發(fā)明專利]等離子體生成裝置及等離子體生成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510569969.5 | 申請日： | 2015-09-09 |
| 公開（公告）號： | CN105551923B | 公開（公告）日： | 2018-03-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 今井伸一 | 申請（專利權(quán)）人： | 松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;A61L9/22;C02F1/30 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 生成 裝置 方法 | ||
1.一種等離子體生成裝置，具備：
流路，供液體流動，具有形成在與所述液體接觸的內(nèi)壁面的凹部或凸部，設(shè)置有將流路內(nèi)部和流路外部的氣體所存在的外部空間連通的氣體導入路；
送液裝置，向所述流路送出液體；
第1電極及第2電極，配置在所述流路內(nèi)部；
電源，向所述第1電極和所述第2電極之間施加規(guī)定的電壓；以及
控制電路，控制所述送液裝置及所述電源，使所述送液裝置向所述流路送出所述液體，在通過減壓空間與所述外部空間的氣壓差從所述外部空間經(jīng)由所述氣體導入路向所述流路內(nèi)部的液體中導入的所述氣體形成了氣泡的狀態(tài)下，使所述電源向所述第1電極和所述第2電極之間施加規(guī)定的電壓，所述減壓空間是通過所述液體在所述流路的形成有所述凹部或所述凸部的部分流動而在所述流路內(nèi)部形成的。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子體生成裝置，
所述凹部是在相對于所述液體在所述流路內(nèi)流動的方向垂直的截面上比周圍凹陷的部分，并且是在相對于該方向平行的截面上比周圍凹陷的部分，
所述凸部是在相對于所述液體在所述流路內(nèi)流動的方向垂直的截面上比周圍突出的部分，并且是在相對于該方向平行的截面上比周圍突出的部分。
3.如權(quán)利要求1或2所述的等離子體生成裝置，
還具備絕緣體，該絕緣體以隔著空隙包圍所述第1電極的方式配置，并且具有將所述外部空間和所述空隙和所述流路內(nèi)部連通的開口部，
所述氣體導入路由所述空隙和所述開口部構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求1或2所述的等離子體生成裝置，
所述第1電極是具有中空部的筒狀電極，該中空部沿長度方向貫通，并且將所述外部空間和所述流路內(nèi)部連通，
所述氣體導入路由所述中空部構(gòu)成。
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