[發明專利]熒光納米標準板的制備方法有效
| 申請號： | 201510551458.0 | 申請日： | 2015-09-01 |
| 公開（公告）號： | CN105203508B | 公開（公告）日： | 2018-09-14 |
| 發明（設計）人： | 蔣克明;黎海文;周武平;張濤;劉聰 | 申請（專利權）人： | 中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所 |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 史霞 |
| 地址： | 215163 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 熒光 納米 標準 制備 方法 | ||
1.一種熒光納米標準板的制備方法，包括：
步驟1)采用電子束蒸發法或磁控濺射法在基底層表面形成一層金屬層；
步驟2)在所述金屬層表面旋涂光刻膠層；利用電子束光刻法對光刻膠層等間距曝光，顯影后形成等間距的光刻膠線條；
步驟3)將所述光刻膠線條浸泡于硅烷化試劑中進行表面硅烷化處理，在光刻膠線條表面形成硅烷層；
步驟4)將所述硅烷層浸泡于熒光染料溶液中反應30min以在所述硅烷層的表面修飾熒光染料層；用乙醇沖洗后，氮氣吹干；
步驟5)在所述熒光染料層表面旋涂用于保護熒光染料的透明保護層。
2.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述基底層為硅或氮化硅。
3.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述金屬層選自鉻、鈦、鋁、金或其組合。
4.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述硅烷化試劑為3-氨丙基三甲氧基硅烷或3-氨丙基三乙氧基硅烷。
5.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述金屬層的厚度為5～50nm。
6.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述光刻膠層的厚度為50～130nm。
7.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述透明保護層的厚度為30～100nm。
8.根據權利要求1所述的熒光納米標準板的制備方法，其特征在于，所述熒光染料為異硫氰酸熒光素或熒光蛋白ATTO 488。
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