[發明專利]發光二極管有效
| 申請號: | 201510547355.7 | 申請日: | 2013-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN105047773B | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發明(設計)人: | 傅毅耕 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 源層 發光二極管 量子 藍寶石基板 第二電極 第一電極 量子阱層 半導體層 摻雜N型 光波長 活性區 兩層 | ||
1.一種發光二極管,包括:
一基板;
一N型半導體層與一P型半導體層,其中該N型半導體層位于該基板與該P型半導體層之間;
一有源層,位于該N型半導體層以及該P型半導體層之間,該有源層發出的光波長λ滿足222nm≤λ≤405nm,該有源層包括i層的量子磊層以及(i-1)層量子阱層,各量子阱層位于任意兩層量子磊層之間,且i為大于等于2的自然數,該i層中各量子磊層的厚度自該P型半導體層側起算依序為T1、T2、T3…Ti,其中T1大于T2與T3;以及
一第一電極以及一第二電極,其中該第一電極位于該N型半導體層的部分區域上,且該第二電極位于該P型半導體層的部分區域上。
2.如權利要求1所述的發光二極管,其中T2≥T3。
3.如權利要求1所述的發光二極管,其中在該i層量子磊層中,最靠近該N型半導體層的厚度Ti為最薄。
4.如權利要求1所述的發光二極管,其中摻雜N型雜質于所述量子磊層中的至少k層,k為大于等于1的自然數,當i為偶數時,k≥i/2,當i為奇數時,k≥(i-1)/2。
5.如權利要求1所述的發光二極管,其中所述量子磊層的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。
6.如權利要求1所述的發光二極管,其中所述量子阱層的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。
7.一種發光二極管,包括:
一基板;
一N型半導體層與一P型半導體層,其中該N型半導體層位于該基板與該P型半導體層之間;
一有源層,位于該N型半導體層以及該P型半導體層之間,該有源層發出的光波長λ滿足222nm≤λ≤405nm,該有源層包括i層的量子磊層以及(i-1)層量子阱層,各量子阱層位于任意兩層量子磊層之間,且i為大于等于2的自然數,該i層中各量子磊層的厚度自該P型半導體層側起算依序為T1、T2、T3…Ti,其中該i層量子磊層中厚度滿足:T1=T2>T3;以及
一第一電極以及一第二電極,其中該第一電極與該第二電極分別位于該N型半導體層的部分區域上與該P型半導體層的部分區域上。
8.如權利要求7所述的發光二極管,其中在該i層量子磊層中,最靠近該N型半導體層的厚度Ti為最薄。
9.如權利要求7所述的發光二極管,其中摻雜N型雜質于所述量子磊層中的至少k層,k為大于等于1的自然數,當i為偶數時,k≥i/2,當i為奇數時,k≥(i-1)/2。
10.如權利要求7所述的發光二極管,其中所述量子磊層的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。
11.如權利要求7所述的發光二極管,其中所述量子阱層的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。
12.一種發光二極管,包括:
一基板;
一N型半導體層與一P型半導體層,其中該N型半導體層位于該基板與該P型半導體層之間;
一有源層,位于該N型半導體層以及該P型半導體層之間,該有源層發出的光波長λ滿足222nm≤λ≤405nm,該有源層包括i層的量子磊層以及(i-1)層量子阱層,各量子阱層位于任意兩層量子磊層之間,且i為大于等于2的自然數,該i層中各量子磊層的厚度自該P型半導體層側起算依序為T1、T2、T3…Ti,在該些量子磊層中,最靠近該P型半導體層側的厚度T1最大,而最靠近該N型半導體層側的厚度Ti最小;以及
一第一電極以及一第二電極,其中該第一電極與該第二電極分別位于該N型半導體層的部分區域上與該P型半導體層的部分區域上。
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