[發(fā)明專利]成像裝置和成像方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510525929.0
• 申請(qǐng)日: 2015-08-25
• 公開（公告）號(hào): CN105093472B
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃治
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H04N5/232
• 分類號(hào): H04N5/232;G03B13/32;G02B7/04
• 代理公司: 北京龍雙利達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11329
• 代理人: 秦衛(wèi)中,肖鸝

1.一種成像裝置，其特征在于，包括：

主透鏡，

圖像傳感器，

第一微透鏡陣列和第二微透鏡陣列，以及驅(qū)動(dòng)裝置；

其中所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列設(shè)置在所述主透j鏡與所述圖像傳感器之間，所述第一微透鏡陣列設(shè)置在所述第二微透鏡陣列與所述主透鏡之間，所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列平行布置，所述第一微透鏡陣列包括M*N個(gè)第一微透鏡，所述第二微透鏡陣列包括M*N個(gè)第二微透鏡，若所述第一微透鏡為平凹透鏡，則所述第二微透鏡為平凸透鏡；若所述第一微透鏡為平凸透鏡，則所述第二微透鏡為平凹透鏡；所述M*N個(gè)第一微透鏡分別與所述M*N個(gè)第二微透鏡凹凸相對(duì)且一一對(duì)應(yīng)，M和N為正整數(shù)，M和N中的至少一個(gè)大于1；

所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述主透鏡、所述圖像傳感器、所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列相連接，用于調(diào)整所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列之間的距離；所述驅(qū)動(dòng)裝置用于調(diào)整所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列之間的距離為第一距離，以提供光場(chǎng)模式；所述第一距離大于0，所述光場(chǎng)模式為入射光線經(jīng)過所述主透鏡折射、并經(jīng)過所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列折射后投射在所述圖像傳感器上；

或者，

所述驅(qū)動(dòng)裝置用于調(diào)整所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列，使得所述M*N個(gè)第一微透鏡貼合所述M*N個(gè)第二微透鏡，以提供非光場(chǎng)模式，所述非光場(chǎng)模式為入射光線經(jīng)過所述主透鏡折射、并經(jīng)過所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列直射后投射在所述圖像傳感器上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列的組合等效于第三微透鏡陣列，所述驅(qū)動(dòng)裝置還用于調(diào)整所述主透鏡、所述圖像傳感器、所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列之間的相對(duì)位置為第一相對(duì)位置，使得所述第三微透鏡陣列的成像平面位于所述圖像傳感器所在的平面上，并使得所述第三微透鏡陣列的主平面位于所述主透鏡的成像平面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列的組合等效于第三微透鏡陣列，所述驅(qū)動(dòng)裝置還用于調(diào)整所述主透鏡、所述圖像傳感器、所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列之間的相對(duì)位置為第二相對(duì)位置，使得所述第三微透鏡陣列的成像平面位于所述圖像傳感器所在的平面上，并使得所述主透鏡的成像平面位于所述主透鏡與所述第三微透鏡陣列的主平面之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一微透鏡陣列與所述第二微透鏡陣列的組合等效于第三微透鏡陣列，所述驅(qū)動(dòng)裝置還用于調(diào)整所述主透鏡、所述圖像傳感器、所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列之間的相對(duì)位置為第三相對(duì)位置，使得所述第三微透鏡陣列的成像平面位于所述圖像傳感器所在的平面上，并使得所述圖像傳感器位于所述第三微透鏡陣列的主平面與所述主透鏡的成像平面之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置還用于調(diào)整所述主透鏡、所述圖像傳感器、所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列之間的相對(duì)位置為第四相對(duì)位置，使得所述主透鏡的成像平面位于所述圖像傳感器所在的平面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的成像裝置，其特征在于，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡采用相同的光學(xué)材料。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的成像裝置，其特征在于，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡采用不同的光學(xué)材料，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡采用的光學(xué)材料的折射率之差在[－0.01，0.01]范圍內(nèi)。