[發明專利]一種在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法

在審

• 申請號: 201510515376.0
• 申請日: 2015-08-20
• 公開（公告）號: CN105137509A
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 朱沛志;薛才寶
• 申請（專利權）人: 揚州大學
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10
• 代理公司: 南京鐘山專利代理有限公司 32252
• 代理人: 戴朝榮

1.一種在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：包括步驟如下：

1)取適量可溶性的磷源于燒杯中，在磁力攪拌的作用下，使磷源完全溶解在去離子水中，制成磷源溶液；

2)取一定量的可溶性鈣鹽在磁力攪拌的作用下完全溶解于去離子水中，制成鈣源溶液；

3)將磷源溶液加入鈣源溶液中，并且調節混合反應過程中的pH在9～11左右，伴隨磁力攪拌持續的攪拌，最終獲得白色乳狀液，即為羥基磷灰石懸濁液；

4)將光學基底進行前期處理，處理完后放于聚四氟乙烯內襯中，并向內襯中加入步驟3)所得的羥基磷灰石懸濁液；然后放入高壓反應釜中，使高壓反應釜置于烘箱中以180℃的溫度反應12h～36h，反應完成后自然冷卻至室溫，收集涂膜樣品。

2.如權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟1)中的可溶性磷源可以用磷酸二氫銨，或者磷酸氫銨鈉。

3.如權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟2)中的可溶性鈣鹽為硝酸鈣。

4.如權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟1)和步驟2)中的鈣源和磷源的摩爾量之比為1.67:1。

5.如權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟3)中調劑pH值的試劑為氨水，氨水易揮發，易溶解，方便后期樣品洗滌的工作。

6.權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟4)中的光學基底的前期處理主要是通過柔和洗滌劑和純水的反復沖洗。

7.權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟4)中收集涂膜樣品時先通過超聲將表面涂膜上的不穩定附著物除去。

8.權利要求1所述的在不同光學元件基底上涂抹生物活性羥基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步驟4)所得的涂膜樣品在烘箱中以40℃～55℃進行烘干處理。