[發明專利]一種冗余圖形的填充方法在審
| 申請號： | 201410106665.0 | 申請日： | 2014-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN103886150A | 公開（公告）日： | 2014-06-25 |
| 發明（設計）人： | 陳權;于世瑞;郜彬 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G06F17/50 | 分類號： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 吳俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 冗余 圖形 填充 方法 | ||
1.一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，所述方法包括：
S1：提供一設置有若干設計圖形的版圖；
S2：將若干冗余圖形以彼此之間相隔一定距離填充滿整個所述版圖；
S3：在所述版圖上設置冗余圖形禁止區域；
S4：在若干所述冗余圖形中，去除位于所述冗余圖形禁止區域內的部分，以得到一臨時冗余圖形；
S5：去除小于最小規定尺寸的臨時冗余圖形，得到最終冗余圖形；
其中，所述冗余圖形禁止區域包括所述設計圖形的區域，距離所述設計圖形一定距離之內的擴充區域以及工藝特殊區域。
2.如權利要求1所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，所述冗余圖形為多邊形。
3.如權利要求1所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，所述冗余圖形禁止區域為多邊形。
4.如權利要求1所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，通過一版圖設計規則得出冗余圖形的所述最小規定尺寸；
其中，所述版圖設計規則規定了版圖設計中的各種工藝要求。
5.如權利要求4所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，若干所述冗余圖形的尺寸根據所述版圖設計規則中規定的最大規定尺寸來設定。
6.如權利要求5所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，若干冗余圖形之間的一定距離根據所述版圖設計規則設定。
7.如權利要求3所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，所述擴充區域的位置以及尺寸均根據所述版圖設計規則來設定。
8.如權利要求3所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，根據所述版圖設計規則設定所述工藝特殊區域。
9.如權利要求1所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，在S4中，對所述冗余圖形以及所述冗余圖形禁止區域進行布爾運算，以去除位于所述冗余圖形禁止區域內的冗余圖形部分。
10.如權利要求1所述的一種冗余圖形的填充方法，其特征在于，所述版圖包括有源層、多晶硅層、柵層和金屬層。
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