[發(fā)明專利]用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510412229.0 | 申請(qǐng)日： | 2015-07-15 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN104971510B | 公開（公告）日： | 2017-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 施存貴;楊曉明;冼致欣 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 啟仲化工（廣西）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B01D1/00 | 分類號(hào)： | B01D1/00;B01D1/30;B01D53/02 |
| 代理公司： | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11369 | 代理人： | 靳浩 |
| 地址： | 530031 廣*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 去除 高分子化合物 揮發(fā)物 裝置 | ||
1.一種用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，包括：
加熱罐，其為倒立的圓錐臺(tái)狀結(jié)構(gòu)，所述加熱罐的底面中嵌設(shè)有多個(gè)環(huán)狀電熱片，所述多個(gè)環(huán)狀電熱片均勻間隔設(shè)置，所述多個(gè)環(huán)狀電熱片均連接至電源，以加熱盛放在所述加熱罐中的高分子化合物，所述加熱罐的上端設(shè)有第一通孔；
支架，其上部豎直設(shè)置有一轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸的上端水平固定一板體，所述板體上表面與所述加熱罐的下端固定連接，所述轉(zhuǎn)軸下端與一馬達(dá)動(dòng)力連接，所述轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)所述加熱罐繞軸線作周期性旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，在每個(gè)周期中，所述加熱罐順時(shí)針旋轉(zhuǎn)180°，然后逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)180°；
吸收罐，其兩側(cè)分別設(shè)置有第二通孔和第三通孔，所述第二通孔通過第一氣管與所述第一通孔連通，所述第三通孔通過第二氣管與抽氣泵連通，所述吸收罐內(nèi)部由所述第二通孔至所述第三通孔依次設(shè)置有第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板，所述第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板平行設(shè)置，且表面均開設(shè)有多個(gè)濾孔，所述第一濾板與所述第二濾板間填塞有氧化鋁，所述第二濾板與所述第三濾板間填塞活性炭，所述第三濾板與所述第四濾板之間填塞有分子篩；
控制器，其與所述馬達(dá)連接，以控制所述加熱罐每分鐘運(yùn)動(dòng)30-60個(gè)周期。
2.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，所述環(huán)狀電熱片的個(gè)數(shù)為五個(gè)，且所述環(huán)狀電熱片的寬度為所述加熱罐底面半徑的1/20到1/10。
3.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，所述第一通孔為圓形孔，且與所述加熱罐同軸，所述第一氣管與所述第一通孔軸承連接。
4.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，所述第一濾板上的濾孔為三角形孔，所述第二濾板上的濾孔為正方形孔，所述第三濾板上的濾孔為圓形孔，所述第四濾板上的濾孔為細(xì)縫狀孔，且所述第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板上濾孔的位置相互對(duì)應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，還包括：
溫度傳感器，用于檢測(cè)所述加熱罐的內(nèi)壁的溫度，所述溫度傳感器還與所述控制器連接，所述控制器根據(jù)所述溫度傳感器檢測(cè)的所述加熱罐的內(nèi)壁的溫度使所述加熱罐在第一工作狀態(tài)、第二工作狀態(tài)和第三工作狀態(tài)間切換；
所述控制器設(shè)置為：當(dāng)所述加熱罐的內(nèi)壁的溫度為45℃時(shí)，所述加熱罐處于第一工作狀態(tài)，所述加熱罐每分鐘運(yùn)動(dòng)30個(gè)周期；當(dāng)所述加熱罐的內(nèi)壁的溫度為60℃時(shí)，所述加熱罐處于第二工作狀態(tài)，所述加熱罐每分鐘運(yùn)動(dòng)40個(gè)周期；當(dāng)所述加熱罐的內(nèi)壁的溫度為75℃時(shí)，所述加熱罐處于第三工作狀態(tài)，所述加熱罐每分鐘運(yùn)動(dòng)60個(gè)周期。
6.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，所述加熱罐內(nèi)的側(cè)壁和下表面設(shè)有多個(gè)突起。
7.如權(quán)利要求1所述的用于去除高分子化合物中低揮發(fā)物的裝置，其特征在于，所述加熱罐的外壁設(shè)有隔熱層。
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