[發明專利]一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝在審
| 申請號: | 201510411602.0 | 申請日: | 2015-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN104962968A | 公開(公告)日: | 2015-10-07 |
| 發明(設計)人: | 樊斌鋒;王建智;柴云;張欣;何鐵帥;張偉華 | 申請(專利權)人: | 靈寶華鑫銅箔有限責任公司 |
| 主分類號: | C25D5/48 | 分類號: | C25D5/48;C23C22/05 |
| 代理公司: | 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 時立新;周闖 |
| 地址: | 472500 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 電解 銅箔 剝離 強度 工藝 | ||
技術領域
本發明屬于電解銅箔表面處理技術領域,具體涉及一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝。
背景技術
目前,由于電子產品的飛速發展,對電解銅箔的材料性能有了更高的要求,而作為電解銅箔基本性能之一的抗剝離強度的高低,直接影響到產品的質量及生產工藝的穩定性。在銅箔實際生產過程中,添加劑、電解工藝參數、銅箔表觀缺陷、溶液進液流量、硅烷偶聯劑等諸多因素,都在不同程度上影響到銅箔的抗剝離強度。本發明工藝主要是采用一種混合硅烷偶聯劑,優化其配比及濃度,達到下游客戶以聚酰亞胺薄膜(PI薄膜)作為絕緣基膜材料時,可以提高基膜與銅箔的抗剝離強度。
發明內容
本發明的目的是提供一種可以提高電解銅箔抗剝離強度的工藝。
為實現上述目的,本發明采用的技術方案是,一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝,包括以下步驟:①溶液制備,分別取KBE-903和KBM-703,加入到水中,常溫攪拌1.5~3.5小時,所得溶液中KBE-903的濃度為2-4g/l,KBM-703的濃度為0.5-1.5g/l;②表面處理:將步驟①制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
?KBE-903的化學名稱:3-氨基丙基三乙氧基硅烷(NH2(CH2)3Si(OC2H5)3);KBM-703的化學名稱:γ-氯丙基三乙氧基硅烷(Cl(CH2)3Si(OC2H5)3)。
?本發明產生的有益效果是,銅箔處理層表面的羥基與完成水解的KBE-903、KBM-703發生縮合反應形成化學鍵,提高了基膜(PI薄膜)與銅箔的抗剝離強度值;并且通過KBE-903、KBM-703形成復合溶液,進一步提升了銅箔的抗剝離強度。
具體實施方式
下面結合具體實施例對本發明作進一步說明,但本發明的保護范圍不限于此。
實施例1
一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝,包括以下步驟:①溶液制備,分別取KBE-903和KBM-703,加入到水中,常溫攪拌3個小時,所得溶液中KBE-903的濃度為2g/l,KBM-703的濃度為0.5g/l;②表面處理:將步驟①制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
對比試驗1:取KBE-903,加入到水中,常溫攪拌三個小時,所得溶液中KBE-903的濃度為2.5?g/l,制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
實施例2
一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝,包括以下步驟:①溶液制備,分別取KBE-903和KBM-703,加入到水中,常溫攪拌1.5小時,所得溶液中KBE-903的濃度為2.6g/l,KBM-703的濃度為1.31g/l;②表面處理:將步驟①制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
對比試驗2:取KBE-903,加入到水中,常溫攪拌三個小時,所得溶液中KBE-903的濃度為3.91g/l,制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
?實施例3
一種提高電解銅箔抗剝離強度的工藝,包括以下步驟:①溶液制備,分別取KBE-903和KBM-703,加入到水中,常溫攪拌3.5小時,所得溶液中KBE-903的濃度為4g/l,KBM-703的濃度為1.5g/l;②表面處理:將步驟①制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
對比試驗3:取KBE-903,加入到水中,常溫攪拌三個小時,所得溶液中KBE-903的濃度為5.5g/l,制備得到的溶液均勻噴淋在銅箔表面,并用吹風機吹干。
將實施例1-3及對比試驗1-3分別用PI薄膜基材與12μm厚的?A4紙大小的電解銅箔壓板,測試抗剝結果(常溫抗剝離是將PI薄膜基材與電解銅箔壓板后在常溫下保持48小時后進行測試,高溫抗剝離是將PI薄膜基材與電解銅箔壓板后在180℃下保持48小時后進行測試)如表1:
表1
?本發明經過KBE-903和KBM-703混合硅烷偶聯劑表面處理后,使銅箔與PI薄膜基材結合時,抗剝離強度均比目前單獨使用的KBE-903硅烷有了一定程度上的提高。同時,該工藝操作簡單,易于實現工業化。
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