[發明專利]圖像處理裝置、圖像處理方法、以及圖像處理程序無效
| 申請號: | 201510369218.9 | 申請日: | 2015-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN105227826A | 公開(公告)日: | 2016-01-06 |
| 發明(設計)人: | 三島直;三田雄志;森內優介 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | H04N5/232 | 分類號: | H04N5/232;G06T3/40 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 彭里 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 裝置 方法 以及 程序 | ||
相關申請的交叉引用
這個申請基于2014年6月30日提交的第2014-135107號日本專利申請,并要求其優先權的權益;其全部內容通過引用被結合于此。
技術領域
在此描述的實施例大體涉及圖像處理裝置、圖像處理方法、以及圖像處理程序。
背景技術
一種圖像處理方法、一種圖像處理裝置以及一種圖像處理程序例如通過在曝光時改變焦點(聚焦)的位置以及通過處理被采集的圖像,來獲得全聚焦(all-focused)圖像。對于與這種多聚焦位置相對應的圖像來說,高質量是令人滿意的。
附圖說明
圖1是顯示根據第一實施例的圖像處理裝置的框圖;
圖2是顯示根據第一實施例的圖像處理裝置的示意性橫截面視圖;
圖3是顯示根據第一實施例的圖像處理裝置的示意性視圖;
圖4是顯示根據第一實施例的圖像處理裝置的操作的流程圖;
圖5是顯示用于估計PSF的方法的示意性視圖;
圖6是顯示用于估計PSF的方法的示意性視圖;
圖7是顯示用于估計PSF的方法的示意性視圖;
圖8是顯示PSF的示意性視圖;
圖9是顯示參考實例的圖像處理裝置的特性的示意性視圖;
圖10是顯示根據第一實施例的圖像處理裝置的特性的示意性視圖;
圖11是顯示根據第二實施例的圖像處理裝置的框圖;
圖12是顯示根據第二實施例的圖像處理裝置的操作的流程圖;
圖13是顯示根據第三實施例的圖像處理裝置的框圖;
圖14A至圖14E是顯示根據第三實施例的圖像處理裝置的操作的示意性視圖;
圖15是顯示根據第三實施例的圖像處理裝置的操作的示意性視圖;
圖16是顯示根據第四實施例的圖像處理裝置的框圖;以及
圖17是顯示根據實施例的圖像處理裝置的框圖。
具體實施方式
根據一個實施例,一種圖像處理裝置包括成像元件、透鏡以及圖像處理器。光朝向成像元件經過透鏡。成像元件與透鏡的相對位置是可變的。圖像處理器獲取第一圖像和第二圖像。圖像處理器通過添加第二圖像的至少一部分至第一圖像來得到第一存儲圖像。當相對位置在第一范圍中時,第一圖像通過成像元件被采集。當相對位置在不同于第一范圍的第二范圍中時,第二圖像通過成像元件被采集。
根據一個實施例,公開了一種圖像處理方法。該方法包括當成像元件與透鏡的相對位置在第一范圍中時,獲取通過成像元件采集的第一圖像。光朝向成像元件經過透鏡。該方法包括當相對位置在不同于第一范圍的第二范圍中時,獲取通過成像元件采集的第二圖像。該方法包括通過添加至少一部分第二圖像至第一圖像,得到第一存儲圖像。
根據一個實施例,公開了一種包括圖像處理程序的計算機可讀的非臨時性存儲介質。該程序使得計算機執行處理。該處理包括當成像元件與透鏡的相對位置在第一范圍中時,獲取通過成像元件采集的第一圖像。光朝向成像元件經過透鏡。該處理包括當相對位置在不同于第一范圍的第二范圍中時,獲取通過成像元件采集的第二圖像。該處理包括通過添加至少一部分第二圖像至第一圖像,得到第一存儲圖像。
以下將參考附圖描述各種實施例。
附圖是示意性的或者概念上的;并且各部分的厚度和寬度之間的關系、各部分之間的尺寸的比例等等不是必需與其實際值相同。此外,即使在相同的部分被圖解的情況下,附圖之間也可以不同地圖解尺寸和/或比例。
在本申請的附圖和說明書中,與對于在其上描述的附圖中描述的部件類似的部件被標記以相同的參考數字,并且適當地省略詳細說明。
第一實施例
圖1是圖解根據第一實施例的圖像處理裝置的框圖。
圖2是圖解根據第一實施例的圖像處理裝置的示意性橫截面視圖。
如圖1所示,根據第一實施例的圖像處理裝置100包括聚焦位置確定單元10(位置確定單元)、成像單元20、以及圖像處理器30。如圖2所示,成像單元20包括透鏡22和成像元件25。
透鏡22是朝向成像原件25透射入射光的成像透鏡。透鏡22相對于成像元件25的相對位置(聚焦位置)是可變的。通過更改在成像單元20中的聚焦位置,對象(subject)可以是焦點對準的,或者焦點可以從對象被移位。
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