[發(fā)明專利]反應腔室及半導體加工設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510367794.X | 申請日： | 2015-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN106298422A | 公開（公告）日： | 2017-01-04 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張彥召;陳鵬 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,張?zhí)焓?/td> |
| 地址： | 100176 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反應 半導體 加工 設備 | ||
【權(quán)利要求書】：
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