[發明專利]帶軸向限制防脫位結構的人工全髖關節假體有效
| 申請號: | 201510360141.9 | 申請日: | 2015-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN105105873B | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發明(設計)人: | 張海寧 | 申請(專利權)人: | 青島大學附屬醫院 |
| 主分類號: | A61F2/32 | 分類號: | A61F2/32 |
| 代理公司: | 青島聯智專利商標事務所有限公司37101 | 代理人: | 徐忠麗 |
| 地址: | 266000 山東省青島*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 軸向 限制 脫位 結構 人工 髖關節 | ||
技術領域
本發明屬于醫療器具技術領域,具體地說,涉及一種帶軸向限制防脫位可調節式結構的人工全髖關節假體。
背景技術
人工全髖關節置換術是目前國際上治療髖關節疾病最為有效的手段之一,其治療效果獲得了全世界范圍內醫生和患者的一致認可。但手術后影響效果的主要并發癥在于關節脫位與關節活動度降低,在一定程度上降低了滿意度,延長了康復周期,并且增加了手術風險,同時為降低該并發癥對手術技術的要求也相應增高。目前對于器械上的改進以便減少脫位風險的措施只有對聚乙烯內襯進行高邊設計,但對脫位率的影響有限,脫位的并發癥仍有3%左右,并且對于有脫位傾向的患者,以及曾經發生脫位的患者尤其需要一種能夠限制脫位的人工全髖關節假體出現。
發明內容
為解決以上問題,本發明提供了一種帶軸向限制防脫位結構的人工全髖關節假體,達到降低或杜絕術后人工全髖關節假體脫位的并發癥,進而達到減少患者術后限制性動作,加速康復進程的目的。
為解決上述技術問題,本發明采用以下技術方案予以實現:
一種帶軸向限制防脫位結構的人工全髖關節假體,包括髖臼假體,內襯,股骨頭假體,股骨頭假體包括股骨頭假體頭部和頸部,其中頭部的中央部位具有錐形孔,頸部的端部伸入該錐形孔內實現錐度配合,所述內襯位于髖臼假體的凹槽內,股骨頭假體頭部位于內襯的凹槽內,還包括軸向限制防脫位結構,該防脫位結構貫穿髖臼假體、內襯以及股骨頭假體頭部的中央部位,將上述三者連為一體且彈性可調,有效防止股骨頭假體從內襯中脫出。
進一步地,所述軸向限制防脫位結構包括兩個紐扣板和人工韌帶結構,每個紐扣板上開設兩個通孔,所述髖臼假體的中央部位開設第一通孔,內襯的中央部位開設第二通孔,股骨頭假體頭部的中央部位開設第三通孔,所述第一至第三通孔、以及錐形孔相對應,其中一個紐扣板位于第一通孔內,另一紐扣板設在第三通孔外側的錐形孔內,所述人工韌帶結構分別依次穿過兩個紐扣板的通孔,將兩個紐扣板連為一體,從而將髖臼假體、內襯以及股骨頭假體連為一體。
進一步地,所述第一通孔為階梯孔,外側部分大于內側部分,所述紐扣板位于外側部分內且卡在階梯孔的臺階處。
進一步地,所述第二、第三通孔與第一通孔的內側部分大小相同,均小于第一通孔的外側部分,同時也小于錐形孔的大小,所以兩個紐扣板正好卡在第一通孔的外側部分內以及錐形孔內。這里,第二、第三通孔的大小是小于錐形孔的最小端的大小。
進一步地,所述第一、第二、第三通孔的邊緣處圓滑過渡。孔的邊緣為光滑帶弧度避免對通過其內的人工韌帶結構造成切割。
進一步地,所述第一、第二、第三通孔的橫截面為圓形、方形或多邊形。
進一步地,位于第一通孔內的紐扣板的外邊緣與髖臼假體的外邊緣平齊或低于髖臼假體的外邊緣。
進一步地,所述內襯采用聚乙烯、陶瓷或金屬材料。
進一步地,所述紐扣板為金屬紐扣板。
進一步地,所述人工韌帶結構采用聚酯纖維或其他材料,具有彈性,可調節其緊張程度。
本發明的人工全髖關節假體通過設計軸向限制防脫位結構,利用軸向牽拉限制作用達到防止股骨頭假體從髖臼假體中脫位的目的,由于該軸向限制防脫位結構具有彈性,可以調節其長度和張力,形成可調節式防脫位結構。
與現有技術相比,本發明的優點和積極效果是:
使用此帶軸向限制防脫位結構的人工全髖關節假體,由于獲得了軸向牽拉作用限制股骨頭假體從髖臼假體內脫出的作用,其作用類似正常髖關節的股骨頭圓韌帶,從而可以達到減少甚至消除人工全髖關節置換術后發生的髖關節脫位的并發癥,孔的邊緣為光滑帶弧度避免對通過其內的結構造成切割。同時,由于此軸向限制防脫位結構具有一定的長度和彈性,因此降低了對假體的股骨頸部分和髖臼假體邊緣的撞擊導致的假體脫位風險,所以可增加術后髖關節的活動度,對術后患者的日常活動的限制要求降低。并且,此軸向限制防脫位結構設計簡單,操作便捷,拆卸容易,也有利于人工全髖關節假體松動在翻修時假體的取出。
附圖說明
圖1是本發明所述人工全髖關節假體具體實施例的縱向剖面視圖;
圖2是紐扣板的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于青島大學附屬醫院,未經青島大學附屬醫院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510360141.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:在輻照系統中使用的調制器
- 下一篇:一種治療鼻科疾病的半導體激光照射鼻頭





