[發明專利]光學成像系統

有效

• 申請號: 201510349924.7
• 申請日: 2015-06-23
• 公開（公告）號: CN105319687B
• 公開（公告）日: 2017-10-31
• 發明（設計）人: 唐乃元;張永明
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/18
• 分類號: G02B13/18;G02B13/00;G02B13/06
• 代理公司: 北京龍雙利達知識產權代理有限公司11329
• 代理人: 肖鸝,王君

技術領域

本發明涉及一種光學成像系統，更具體地涉及一種應用于電子產品上的小型化光學成像系統。

背景技術

近年來，隨著具有攝影功能的便攜式電子產品的興起，光學系統的需求日漸提高。一般光學系統的感光元件不外乎是感光耦合元件(Charge Coupled Device；CCD)或互補性氧化金屬半導體元(Complementary Metal-Oxide Semiconductor Sensor；CMOS Sensor)兩種，且隨著半導體制作工藝技術的精進，使得感光元件的像素尺寸縮小，光學系統逐漸往高像素領域發展，因此對成像質量的要求也日益增加。

傳統搭載于便攜式裝置上的光學系統，多采用四片或五片式透鏡結構為主，然而由于便攜式裝置不斷朝提升像素并且終端消費者對大光圈的需求例如微光與夜拍功能或是對廣視角的需求例如前置鏡頭的自拍功能。但是設計大光圈的光學系統常面臨產生更多像差致使周邊成像質量隨之劣化以及制造難易度的處境，而設計廣視角的光學系統則會面臨成像的畸變率(distortion)提高，現有的光學成像系統已無法滿足更高級的攝影要求。

發明內容

因此，本發明實施例的目的在于，提供一種技術，能夠有效增加光學成像系統的進光量與增加光學成像系統的視角，除進一步提高成像的總像素與質量外同時能兼顧微型化光學成像系統的平衡。

本發明實施例相關的透鏡參數的用語與其代號詳列如下，作為后續描述的參考：

與長度或高度有關的透鏡參數

光學成像系統的成像高度以HOI表示；光學成像系統的高度以HOS表示；光學成像系統的第一透鏡物側面至第六透鏡像側面間的距離以InTL表 示；光學成像系統的第六透鏡像側面至成像面間的距離以InB表示；InTL+InB＝HOS；光學成像系統的固定光闌(光圈)至成像面間的距離以InS表示；光學成像系統的第一透鏡與第二透鏡間的距離以In12表示(例示)；光學成像系統的第一透鏡在光軸上的厚度以TP1表示(例示)。

與材料有關的透鏡參數

光學成像系統的第一透鏡的色散系數以NA1表示(例示)；第一透鏡的折射律以Nd1表示(例示)。

與視角有關的透鏡參數

視角以AF表示；視角的一半以HAF表示；主光線角度以MRA表示。

與出入瞳有關的透鏡參數

光學成像系統的入射瞳直徑以HEP表示。

與透鏡面形深度有關的參數

第六透鏡物側面在光軸上的交點至第六透鏡物側面的最大有效徑位置于光軸的水平位移距離以InRS61表示(例示)；第六透鏡像側面在光軸上的交點至第六透鏡像側面的最大有效徑位置在光軸的水平位移距離以InRS62表示(例示)；第六透鏡物側面在光軸上的交點至第六透鏡物側面的反曲點與光軸的的水平位移距離以Inf61表示(例示)，第六透鏡像側面在光軸上的交點至第六透鏡像側面的反曲點與光軸的水平位移距離以Inf62表示(例示)。

與透鏡面型有關的參數

臨界點是指特定透鏡表面上，除與光軸的交點外，與垂直于光軸的切面相切的切點。承上，例如第五透鏡物側面的臨界點與光軸的垂直距離以HVT51，第五透鏡像側面的臨界點與光軸的垂直距離為HVT52，第六透鏡物側面的臨界點與光軸的垂直距離以HVT61，第六透鏡像側面的臨界點與光軸的垂直距離為HVT62。

與像差有關的變數

光學成像系統的光學畸變(Optical Distortion)以ODT表示；其TV畸變(TV Distortion)以TDT表示，并且可以進一步限定描述在成像50％至100％視野間像差偏移的程度；球面像差偏移量以DFS表示；慧星像差偏移量以DFC表示。