[發(fā)明專利]射束照射裝置及射束照射方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510323772.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105280467B | 公開(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 月原光國;井門德安;末次紀(jì)之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J37/317 | 分類號(hào): | H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 照射 裝置 方法 | ||
本發(fā)明提供一種提高射束照射處理品質(zhì)的技術(shù)。本發(fā)明的射束照射裝置(10)具備:射束掃描器(26),使帶電粒子束(B)沿規(guī)定的掃描方向往復(fù)掃描;測(cè)定器(42),能夠測(cè)量射入到作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域的帶電粒子的角度成分;及數(shù)據(jù)處理部,利用測(cè)定器(42)的測(cè)定結(jié)果,計(jì)算帶電粒子束(B)的有效照射發(fā)射度。測(cè)定器(42)在沿掃描方向往復(fù)掃描的帶電粒子束(B)通過作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域而射入到測(cè)定器(42)的時(shí)間內(nèi)測(cè)量針對(duì)帶電粒子束(B)的角度分布的時(shí)間變化值,數(shù)據(jù)處理部將測(cè)定器所測(cè)量的角度分布的時(shí)間變化值中所包含的時(shí)間信息轉(zhuǎn)換為位置信息來計(jì)算有效照射發(fā)射度。有效照射發(fā)射度表示針對(duì)假想射束的發(fā)射度,所述假想射束能夠通過將沿掃描方向掃描而射入到作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域的帶電粒子束的一部分相加而形成。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)主張基于2014年6月13日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2014-122347號(hào)的優(yōu)先權(quán)。其申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過參考援用于本說明書中。
本發(fā)明涉及一種射束照射裝置及射束照射方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體器件的制造工序中,為了改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電性的目的或改變半導(dǎo)體的晶體結(jié)構(gòu)的目的等,標(biāo)準(zhǔn)地實(shí)施向半導(dǎo)體晶片注入離子的離子注入工序。離子注入工序中使用的裝置稱為離子注入裝置,具有通過離子源生成離子并加速所生成的離子來形成離子束的功能、及將該離子束傳輸至注入處理室并向處理室內(nèi)的晶片照射離子束的功能。這種離子注入裝置為用于向?qū)ο笪镎丈溆呻x子或電子等帶電粒子構(gòu)成的帶電粒子束的射束照射裝置的一例。
作為表示相對(duì)于帶電粒子束的前進(jìn)方向會(huì)聚或發(fā)散的狀態(tài)的指標(biāo),有稱作“發(fā)射度”的概念。發(fā)射度例如通過將與射束軌道正交的平面內(nèi)的位置x、和該位置上的帶電粒子的前進(jìn)方向與射束軌道所呈的角度θ標(biāo)繪于x-θ平面的x-θ分布來規(guī)定。例如,利用拍攝元件測(cè)量通過小孔分離離子射束并且通過小孔的射束射入到熒光板而產(chǎn)生的發(fā)光,由此測(cè)量離子束的入射角度以及發(fā)射度(例如,參考專利文獻(xiàn)1)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-63874號(hào)公報(bào)
已知若射入到晶片的離子束的角度發(fā)生變化,則離子束與晶片的相互作用的方式發(fā)生變化,對(duì)離子注入的處理結(jié)果帶來影響。因此,為了適當(dāng)?shù)乜刂齐x子注入工序,要求掌握離子束的角度信息。尤其,為了評(píng)價(jià)相對(duì)于整個(gè)晶片的離子注入處理的品質(zhì),了解對(duì)具有何種入射角度的離子在晶片的各地點(diǎn)照射何種程度變得很重要。換言之,從晶片的某個(gè)地點(diǎn)觀察而非測(cè)量照射到晶片的離子束所具有的角度信息的視點(diǎn)時(shí),要求測(cè)量射入到該地點(diǎn)的離子的角度信息的視點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的,其目的在于提供一種提高射束照射處理品質(zhì)的技術(shù)。
為了解決上述課題,本發(fā)明的一方式為一種射束照射裝置,其用于向?qū)ο笪镎丈鋷щ娏W邮渲校邆洌荷涫鴴呙杵鳎箮щ娏W邮匾?guī)定的掃描方向往復(fù)掃描;測(cè)定器,能夠測(cè)量射入到作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域的帶電粒子的角度成分;及數(shù)據(jù)處理部,利用測(cè)定器的測(cè)量結(jié)果,計(jì)算帶電粒子束的有效照射發(fā)射度。測(cè)定器在沿掃描方向往復(fù)掃描的帶電粒子束通過作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域而射入到測(cè)定器的時(shí)間內(nèi),測(cè)量針對(duì)帶電粒子束的角度分布的時(shí)間變化值,數(shù)據(jù)處理部將測(cè)定器所測(cè)量的角度分布的時(shí)間變化值中所包含的時(shí)間信息轉(zhuǎn)換為位置信息來計(jì)算有效照射發(fā)射度,有效照射發(fā)射度為表示針對(duì)假想射束的掃描方向的發(fā)射度,所述假想射束能夠通過將沿掃描方向掃描而射入到作為測(cè)量對(duì)象的區(qū)域的帶電粒子束的一部分相加而形成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于斯伊恩股份有限公司,未經(jīng)斯伊恩股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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