[發(fā)明專利]基于無源光學(xué)水印的硬件木馬檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510280787.6 | 申請日: | 2015-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN104865270B | 公開(公告)日: | 2017-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于宗光;周昱;張榮;魏敬和;雷淑嵐 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 | 代理人: | 殷紅梅,屠志力 |
| 地址: | 214037 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 無源 光學(xué) 水印 硬件 木馬 檢測 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于無源光學(xué)水印的硬件木馬檢測方法,尤其是一種不需要對電路進(jìn)行任何電測試,并能克服電路受到工藝噪聲以及測量噪聲的影響,顯著降低硬件木馬的測試復(fù)雜度并提高檢測效率的硬件木馬檢測方法。
背景技術(shù)
集成電路在設(shè)計(jì)與制造過程中,往往會涉及到第三方的設(shè)計(jì)服務(wù)及IP(知識產(chǎn)權(quán)核)、EDA(電子設(shè)計(jì)自動化)軟件以及不受控的晶圓廠和封裝測試廠,在這些環(huán)節(jié)當(dāng)中,芯片很有可能被人為的修改,比如惡意的增加,刪除或者改變芯片內(nèi)部原來有電路結(jié)構(gòu),這類對電路的功能,性能,可靠性,安全性等會產(chǎn)生影響的惡意的電路修改即稱為硬件木馬。由于制造是目前制約我國集成電路發(fā)展的最大因素,絕大部分的集成電路都依賴國外的廠商制造,因此這一環(huán)節(jié)也是電路最容易遭到修改,被植入硬件木馬的環(huán)節(jié)。
針對硬件木馬的檢測已經(jīng)有很多種的方法,目前研究的最多的就是基于旁路分析的電測試,即是利用芯片工作時(shí)的側(cè)信道信息(如電磁輻射,電流或者電路延時(shí)等信息)來對木馬進(jìn)行檢測。其原理是因?yàn)殡娐分兄踩氲挠布抉R會對芯片的一些側(cè)信道信號,如電流,頻率或路徑延時(shí)產(chǎn)生影響,因此通過觀察芯片的側(cè)信道信號并與原始芯片的側(cè)信道信息作比較,進(jìn)而檢測出芯片中是否有硬件木馬的存在。對電路進(jìn)行基于側(cè)信道分析的硬件木馬檢測的最大優(yōu)點(diǎn)是可以使硬件木馬不被觸發(fā)的情形下被檢測出來,但是其也有顯著的缺點(diǎn),即當(dāng)待測電路的總體規(guī)模很大,電路內(nèi)部被植入的硬件木馬的規(guī)模很小,一些側(cè)信道信息,比如電流和路徑延時(shí),其變化幅度極小。考慮到測量過程中引入的噪聲,以及芯片制造過程中由于工藝漂移帶來的噪聲,這種極小的側(cè)信道信號變化將無法被實(shí)際測量出來或者即使被測量出來也難以確定是由于硬件木馬引起的,還是由于測量噪聲,工藝漂移噪聲引起的。且基于旁路分析的測試需要進(jìn)行極為復(fù)雜的電測試以及各種數(shù)字信號處理分析,因此檢測成本較高。且該測試方法屬于一種間接的測試方法,即無法最直觀的以肉眼來判斷電路內(nèi)部是否含有硬件木馬。
基于光學(xué)的檢測方法已經(jīng)有一些研究成果,如將待測芯片去封裝,然后使用掃描電鏡等設(shè)備對電路一層一層的進(jìn)行拍照,然后與原始電路的版圖作對比,從而判斷芯片中有無硬件木馬。此方法雖然最為直觀,但是屬于破壞性的檢測,即每檢測一顆芯片,該芯片就被破壞,無法繼續(xù)使用。且針對一批芯片中只有少數(shù)幾顆芯片含有硬有木馬的情況,這種破壞性檢測的方法有可能漏檢。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供一種不需要進(jìn)行電測試的基于無源光學(xué)水印的硬件木馬檢測方法。它是一種通過在電路設(shè)計(jì)階段植入一種無源光學(xué)水印,然后當(dāng)電路制造完畢后,直接利用近紅外光線對實(shí)際電路進(jìn)行拍照,通過對實(shí)際電路中無源光學(xué)水印的位置進(jìn)行判斷,從而確定實(shí)際電路內(nèi)部是否含有硬件木馬的方法,省去了傳統(tǒng)測試方法中復(fù)雜的步驟,并能克服工藝漂移噪聲,測量噪聲等,顯著降低測試復(fù)雜度并提高測試的準(zhǔn)確度。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種基于無源光學(xué)水印的硬件木馬檢測方法,包括下述步驟:
a)、在電路設(shè)計(jì)的過程中,在電路中插入一些用于后續(xù)修改電路使用的備用單元(spare cell);
b)、修改備用單元,向備用單元內(nèi)部添加底層金屬,使得修改后的備用單元的金屬密度高于電路中其余的標(biāo)準(zhǔn)單元或者功能單元;
c)、將完成步驟b)后的電路進(jìn)行仿真,得到電路在被近紅外光線照射后的反射頻譜圖,反射頻譜圖中有備用單元區(qū)域的圖案即為無源光學(xué)水印;
d)、當(dāng)電路制造完畢后,利用近紅外光線將實(shí)際電路自底向上進(jìn)行拍照,得到照片即可得到實(shí)際電路對近紅外光線的反射圖,反射圖中的水印即為實(shí)際的無源光學(xué)水印;
e)、將拍照獲得照片中實(shí)際的無源光學(xué)水印與仿真獲得的無源光學(xué)水印進(jìn)行比較,若照片中的任一無源光學(xué)水印位置與仿真中所得到的無源光學(xué)水印位置相比,位置變化過大,超過位置變化上限值;或者仿真反射頻譜圖中的水印位置在照片中沒有找到,即水印消失;或者所拍的照片中出現(xiàn)了比仿真反射頻譜圖中更多的類似水印點(diǎn),則認(rèn)為實(shí)際電路中含有硬件木馬。
進(jìn)一步地,
步驟a)中所述的備用單元包括與門,或門,非門,異或門或寄存器中的一種或多種的組合。便于以后電路發(fā)生問題需要進(jìn)行修改時(shí),不需要修改底層的多晶層而重新制作掩膜,可以直接在金屬層通過修改不同單元之間的連線,完成電路功能,性能,甚至可靠性方面的修復(fù),從而顯著降低設(shè)計(jì)成本。
進(jìn)一步地,
步驟a)中,插入備用單元時(shí),按照以下規(guī)則之一進(jìn)行:
a1)、將電路按照一定的面積分成多個(gè)區(qū)域,在每個(gè)區(qū)域中植入備用單元;
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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