[發明專利]一種鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法有效
| 申請號: | 201510272038.9 | 申請日: | 2015-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN104947192B | 公開(公告)日: | 2018-11-27 |
| 發明(設計)人: | 劉正太;沈大偉;李明穎;楊海峰;姚岐;劉吉山;樊聰聰 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | C30B29/24 | 分類號: | C30B29/24;C30B25/02 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鈣鈦礦型 sriro sub 薄膜 材料 制備 方法 | ||
1.一種鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1:提供一鈣鈦礦型襯底;
S2:對所述襯底進行清洗處理;
S3:對所述襯底進行退火處理;
S4:在氧化物分子束外延系統中采用Ir單質靶蒸發源、Sr單質靶蒸發源及氧源,在所述襯底表面外延生長鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料,所述襯底溫度為500~600℃;外延生長鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料時,Sr與Ir的單質束流比大于1。
2.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:所述鈣鈦礦型襯底為LSAT、GdScO3或SrTiO3。
3.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:于所述步驟S2中,采用丙酮去除所述襯底表面吸附的有機物雜質。
4.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:所述步驟S2包括如下過程:將所述襯底依次放入丙酮、酒精、異丙醇中進行超聲清洗。
5.根據權利要求4所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:將所述襯底放入丙酮、酒精、異丙醇中進行超聲清洗的時間均為1~60分鐘。
6.根據權利要求4所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:在最后一步超聲清洗后,采用氮氣將所述襯底吹干。
7.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:于所述步驟S3中,所述退火處理包括如下過程:
將所述襯底傳入真空腔,并加熱到第一溫度;
再往所述真空腔內通入氧氣,并繼續加熱到第二溫度;所述第二溫度高于第一溫度;
將所述襯底在所述第二溫度下保溫預設時間。
8.根據權利要求7所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:所述第一溫度為100~400℃,所述第二溫度為500~900℃,所述預設時間為5~100分鐘。
9.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:Sr與Ir的單質束流比為1.001~1.1。
10.根據權利要求1所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:于所述步驟S4中,所述氧源為臭氧。
11.根據權利要求10所述的鈣鈦礦型SrIrO3單晶薄膜材料的制備方法,其特征在于:外延生長過程中,所述臭氧的氣壓為1×10-7~1×10-5Torr。
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