[發明專利]露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型

有效

• 申請號: 201510267450.1
• 申請日: 2015-05-21
• 公開（公告）號: CN104849432B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 陳亞軍;毛金鋒;常治國;趙斐;春堅超;尼加提·阿布都熱西提;徐利凱
• 申請（專利權）人: 新疆工程學院
• 主分類號: G01N33/24
• 分類號: G01N33/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種滑坡監測模型，具體涉及一種露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型。

背景技術

近年來，在山坡或深凹露天礦的開采中，頻繁出現巖石臺階順層斜面滑坡事故，嚴重威脅安全生產。為了直觀分析確定滑坡類型和分析確認滑坡危害，在可知范圍內，尚無制作出專門針對開采中的山坡或深凹露天礦巖石臺階順層斜面的滑坡監測模型。

發明內容

本發明要解決的技術問題是制造一種能夠形像展示上述地質災害結構組成、失穩機理、失穩過程的全自動動態模型，實現失穩過程可控、各層位移量實時顯示、全自動循環演示功能，為教學提供一個形象的展示平臺(工具)。

為解決上述技術問題，本發明的實施例提供了一種露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型，包括模板、巖石層、控制器、電機、座架、機座和拉線傳感器，所述機座上設有座架，所述座架上方設有模板，所述模板上放置有三層巖石層，巖石層內側設有電機，模板上設有控制器和拉線傳感器，巖石層底部安裝有鏈條，電機通過鏈條連接有齒輪，電機帶動齒輪，齒輪帶動鏈條運動，每個巖石層獨立連接有位移傳感器，可準確的知道位移量，實現精準位移量控制，位移傳感器與控制器相連。

作為優選，所述電機為帶有減速箱的慢速電機。

作為優選，所述電機為雙轉向電機。

作為優選，所述巖石層為多層。

作為優選，所述位移傳感器為拉桿式位移傳感器或拉線式位移傳感器。

作為優選，所述控制器為單片機搭建的測控系統或者PLC控制器。

作為優選，所述控制器上還設有顯示屏。

作為優選，所述電機與所述控制器相連。

本發明的上述技術方案的有益效果如下：

根據大量的露天礦巖石臺階沿順層斜面產生的滑坡事故，專門制作此種滑坡類型的監測模型，可直觀演示說明滑坡的過程和分析說明產生滑坡的原因。

附圖說明

圖1為本發明的露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型實施例的結構示意圖。

圖2為本發明的露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型中齒輪、鏈條、巖石層安裝位置及運動過程示意圖。

具體實施方式

為使本發明要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。

如圖1-2所示，本發明的實施例了一種露天礦巖石臺階順層斜面滑坡監測模型，包括模板1、巖石層2、控制器3、電機4、座架5、機座6和拉線傳感器7，所述機座6上設有座架5，所述座架5上方設有模板1，所述模板1上放置有三層巖石層2，巖石層2內側設有電機4，模板1上設有控制器3和拉線傳感器7，巖石層2底部安裝有鏈條8，電機4通過鏈條8連接有齒輪9，電機4帶動齒輪9，齒輪9帶動鏈條8運動，每個巖石層2獨立連接有位移傳感器7，可準確的知道位移量，實現精準位移量控制，位移傳感器7與控制器3相連。

所述電機4為帶有減速箱的慢速電機。

所述電機4為雙轉向電。

所述巖石層2為多層。

所述位移傳感器7為拉桿式位移傳感器或拉線式位移傳感器。

所述控制器3為單片機搭建的測控系統或者PLC控制器。

所述控制器3上還設有顯示屏。

所述電機4與所述控制器3相連

巖石層運動過程，如圖2所示，巖石層2底部裝有鏈條8，鏈條8與巖石層2固定。電機4帶動齒輪9，齒輪9帶動鏈條8運動(巖石層運動)。電機正傳(A方向轉動)巖石層下滑，電機反轉(B方向轉動)巖石層復位。

每個巖石層獨立連接有位移傳感器，可準確的知道位移量，實現精準位移量控制。位移傳感器與控制器連接，控制器與計算機連接，計算可實時獲取每個層位的位移量及位移狀態

本具體實施控制器內部MCU①及電機驅動電路驅動電機轉動(可正、反轉)。電機使用帶有減速箱的慢速電機，控制電機的轉動時間即可達到控制位移量的目的(控制巖石層的向上或向下移動)。控制器通過采集各巖層位移傳感器的信號，可實時獲取每個層位的位移，以此達到準確控制的目的。

巖石層的下滑動作順序為A、B、C，復位順序為C、B、A

下滑動作：(在控制器控制下)

(1)、電機M1轉動，巖石層A向下滑動，達到預定時間后(也可理解為

達到預定位移量)停止。(電機停止，巖石也停止位移)

(2)、電機M2轉動，巖石層B向下滑動，達到預定時間后停止。

(3)、電機M3轉動，巖石層C向下滑動，達到預定時間后停止。

復位動作：(在控制器控制下)

與下滑順序相反。

以上所述是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。