[發(fā)明專利]高能激光點(diǎn)陣式微米級(jí)熱處理設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510216304.6 | 申請(qǐng)日： | 2015-05-04 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106183435A | 公開(kāi)（公告）日： | 2016-12-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊亮;尹鵬;曾雷;顧松華;曹陽(yáng);魏要麗 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 海南大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | B41J2/435 | 分類號(hào)： | B41J2/435 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 570228 *** | 國(guó)省代碼： | 海南;46 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 高能 激光 陣式 微米 熱處理 設(shè)備 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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- 專利分類
B41 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
