[發明專利]一種可回收光催化劑的制備方法在審
| 申請號： | 201510214064.6 | 申請日： | 2015-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN104841412A | 公開（公告）日： | 2015-08-19 |
| 發明（設計）人： | 唐曉峰;逯琪;董建廷;李大銘 | 申請（專利權）人： | 上海朗億功能材料有限公司 |
| 主分類號： | B01J21/08 | 分類號： | B01J21/08;B01J27/24;B01J23/50 |
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| 地址： | 201699 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 可回收 光催化劑 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于，將光催化劑通過磁控濺射的方式沉積于1微米～1厘米的顆粒載體表面。
2.根據權利要求1所述的一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于：所述載體包括人造玻璃、石英砂、搪瓷、三氧化二鋁、氮化鋁、立方氮化硼、碳化硅、方解石、分子篩。
3.根據權利要求1所述的一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于：所述光催化劑的種類包括二氧化鈦(TiO2)，氧化鋅(ZnO)，氧化錫(SnO2)，二氧化鋯(ZrO2)，硫化鎘(CdS)。
4.根據權利要求1所述的一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于：在進行磁控濺射前將所述顆粒載體進行清洗后篩分，在80℃～100℃烘箱內進行烘干。
5.根據權利要求1所述的一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于：將進行磁控濺射后的催化劑進行后處理的工藝參數是600～650℃，熱處理時間120～300min。
6.根據權利要求1所述的一種可回收光催化劑的制備方法，其特征在于：所述磁控濺射的工藝參數為本底壓力6.0×10-3～7.0×10-3Pa，40～60Psi99.99％純度氬氣，鍍膜壓力2.0×10-1～2.2×10-1Pa，濺射電流5～10A，鍍膜時間10～20s。
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