[發明專利]激光脈沖調制裝置

有效

• 申請號: 201510145145.5
• 申請日: 2015-03-30
• 公開（公告）號: CN104734003B
• 公開（公告）日: 2017-09-19
• 發明（設計）人: 葉昱均
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司;武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01S5/06
• 分類號: H01S5/06
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙)44300
• 代理人: 黃威

技術領域

本發明涉及激光調制領域，特別是涉及一種激光脈沖調制裝置。

背景技術

在半導體領域，一般通過高溫退火的方式將非晶硅轉換為多晶硅。這里一般采用激光照射的方式將非晶硅快速上升至一個設定溫度。

但是如直接采用峰值功率較大的激光脈沖裝置對非晶硅進行照射，可能導致氫爆現象的產生，從而可能造成生成的多晶硅薄膜脫落，影響產品的良率。如采用峰值功率較低的激光脈沖裝置對非晶硅進行照射，則非晶硅表面無法在短時間內達到設定溫度，并需要進行多次激光脈沖照射才能完成整個轉換操作。

故，有必要提供一種激光脈沖調制裝置，以解決現有技術所存在的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種不會影響產品的良率且操作難度較小的激光脈沖調制裝置；以解決現有的激光脈沖調制裝置的易產生氫爆現象以及操作難度較大的技術問題。

為解決上述問題，本發明提供的技術方案如下：

本發明實施例提供一種激光脈沖調制裝置，其包括：

第一激光源，用于產生振動方向與傳播方向平行的第一線偏振脈沖激光；

第二激光源，用于產生振動方向與傳播方向垂直的第二線偏振脈沖激光；以及

第一偏振分光鏡，用于對所述第一線偏振脈沖激光和所述第二線偏振脈沖激光進行疊加，以形成一第一整合脈沖激光；

其中所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度，所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第二線偏振脈沖激光的脈沖寬度。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述激光脈沖調制裝置還包括：

第二分光鏡，用于對入射光線進行分光處理，以形成第一分光激光以及第二分光激光；以及

反射鏡組合，用于將所述第二分光鏡出射的第二分光激光反射至所述第二分光鏡。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述反射鏡組合包括用于調整所述第二分光激光的傳播方向的多個反射鏡。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第二分光鏡出射的多條所述第一分光激光相互疊加，以形成第二整合脈沖激光。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第二整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第二分光鏡的透光率為20％至50％，所述第二分光鏡的反射率為50％至80％。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光在所述第一偏振分光鏡上發生全透射，所述第二線偏振脈沖激光在所述第一偏振分光鏡上發生全反射。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度等于所述第二線偏振脈沖激光的脈沖寬度。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖開始時間與所述第二線偏振脈沖激光的脈沖開始時間的差值小于所述脈沖寬度。

在本發明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度的范圍為20納秒至200納秒。

相較于現有的激光脈沖調制裝置，本發明的激光脈沖調制裝置使用雙激光源形成功率以及脈寬適合的整合激光脈沖，從而提高了產品的良率，且操作難度較??；解決了現有的激光脈沖調制裝置的易產生氫爆現象以及操作難度較大的技術問題。

為讓本發明的上述內容能更明顯易懂，下文特舉優選實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下：

附圖說明

圖1為本發明的激光脈沖調制裝置的第一優選實施例的結構示意圖；

圖2A為本發明的激光脈沖調制裝置的第一優選實施例的激光脈沖波形圖之一；

圖2B為本發明的激光脈沖調制裝置的第一優選實施例的激光脈沖波形圖之二；

圖3為本發明的激光脈沖調制裝置的第二優選實施例的結構示意圖；

圖4A為本發明的激光脈沖調制裝置的第二優選實施例的激光脈沖波形圖之一；

圖4B為本發明的激光脈沖調制裝置的第二優選實施例的激光脈沖波形圖之二。

具體實施方式

以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發明可用以實施的特定實施例。本發明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內」、「外」、「側面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發明，而非用以限制本發明。

在圖中，結構相似的單元是以相同標號表示。