[發(fā)明專利]計(jì)量圖案布局及其使用方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510141230.4 | 申請日: | 2015-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104950590B | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | G·寧;G·于貝爾賴特;L·C·里特;P·阿克曼 | 申請(專利權(quán))人: | 格羅方德半導(dǎo)體公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11314 | 代理人: | 程偉,王錦陽 |
| 地址: | 英屬開曼群*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 計(jì)量 圖案 布局 及其 使用方法 | ||
1.一種電路圖案結(jié)構(gòu),包括:
用于電路結(jié)構(gòu)的計(jì)量圖案布局,包括有利于布置多個(gè)計(jì)量圖案的多個(gè)象限,包括:
第一象限,用于第一晶圓測量圖案;
第二象限,用于第二晶圓測量圖案;
第三象限,用于光罩對位圖案;以及
第四象限,用于光罩測量圖案;
其中,該多個(gè)象限的布置有利于將自該第一及第二晶圓測量圖案獲得的數(shù)據(jù)與自該光罩測量圖案及該光罩對位圖案獲得的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)。
2.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該第一象限相對該第二象限呈對角設(shè)置,以及該三象限相對該第四象限呈對角設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該第一象限的布置部分地經(jīng)設(shè)計(jì)用以將該光罩對位圖案與該多個(gè)計(jì)量圖案中的其它計(jì)量圖案隔離,以于計(jì)量工具掃描時(shí)最大限度地降低該光罩對位圖案的失真。
4.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該第四象限包括該光罩測量圖案,該光罩測量圖案包括多個(gè)結(jié)構(gòu)元件,其中,至少一個(gè)結(jié)構(gòu)元件為至少一個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件,該至少一個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件經(jīng)設(shè)計(jì)以在光學(xué)鄰近校正過程中保護(hù)該多個(gè)結(jié)構(gòu)元件免受修改。
5.如權(quán)利要求4所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該至少一個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件具有至少一個(gè)尺寸維數(shù)大于該光罩的預(yù)定義臨界維數(shù)。
6.如權(quán)利要求5所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該至少一個(gè)尺寸維數(shù)比該光罩的該預(yù)定義臨界維數(shù)大兩倍。
7.如權(quán)利要求4所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該至少一個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件是多個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件中的一個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件。
8.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該多個(gè)象限的至少其中一個(gè)還有利于布置兩個(gè)計(jì)量圖案,其中,該第一計(jì)量圖案對應(yīng)雙重圖案化制程的第一曝光層,以及該第二計(jì)量圖案對應(yīng)該雙重圖案化制程的第二曝光層,該兩個(gè)計(jì)量圖案有利于該雙重圖案化制程的覆蓋計(jì)量(overlay metrology)。
9.如權(quán)利要求8所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該第四象限包括第一光罩測量圖案以及第二光罩測量圖案,該第一光罩測量圖案包括具有至少一個(gè)第一最外結(jié)構(gòu)元件的多個(gè)第一結(jié)構(gòu)元件,該至少一個(gè)第一最外結(jié)構(gòu)元件經(jīng)設(shè)計(jì)以在光學(xué)鄰近校正過程中保護(hù)該多個(gè)第一結(jié)構(gòu)元件免受修改,以及該第二光罩測量圖案包括具有至少一個(gè)第二最外結(jié)構(gòu)元件的多個(gè)第二結(jié)構(gòu)元件,該至少一個(gè)第二最外結(jié)構(gòu)元件經(jīng)設(shè)計(jì)以在光學(xué)鄰近校正過程中保護(hù)該多個(gè)第二結(jié)構(gòu)元件免受修改。
10.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該計(jì)量圖案布局是經(jīng)設(shè)計(jì)用于電路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的第一金屬層的第一計(jì)量圖案布局,以及其中,該第一計(jì)量圖案布局可旋轉(zhuǎn)90°以提供用于該電路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的第二金屬層的第二計(jì)量圖案布局。
11.如權(quán)利要求1所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該計(jì)量圖案布局還包括與該多個(gè)象限的其中一個(gè)或多個(gè)相鄰的劃線區(qū),該劃線區(qū)有利于布置一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案。
12.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該劃線區(qū)為方形劃線區(qū),該方形劃線區(qū)至少部分形成該圖案布局的邊界,以及其中,該多個(gè)象限設(shè)于該方形劃線區(qū)內(nèi)。
13.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該劃線區(qū)包括十字形劃線區(qū),該十字形劃線區(qū)居中設(shè)于該圖案布局內(nèi),以及其中,該劃線區(qū)隔開該多個(gè)象限。
14.如權(quán)利要求13所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該十字形劃線區(qū)還包括中心區(qū),該中心區(qū)包括圖案識(shí)別計(jì)量圖案、雙重圖案化覆蓋計(jì)量圖案或其組合。
15.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案為一個(gè)或多個(gè)雙重圖案化覆蓋計(jì)量圖案。
16.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案為一個(gè)或多個(gè)金屬層覆蓋計(jì)量圖案。
17.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案為一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)孔層計(jì)量圖案。
18.如權(quán)利要求11所述的電路圖案結(jié)構(gòu),其中,該計(jì)量圖案布局包括確定的表面積,該確定的表面積包括該多個(gè)象限及該劃線區(qū)的表面積,該確定的表面積有利于在光罩圖案的主動(dòng)區(qū)內(nèi)或晶圓圖案的主動(dòng)區(qū)內(nèi)設(shè)置該結(jié)構(gòu)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于格羅方德半導(dǎo)體公司,未經(jīng)格羅方德半導(dǎo)體公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510141230.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





