[發明專利]一種用于光刻機的光源掩模優化方法

有效

• 申請號: 201510097250.6
• 申請日: 2015-03-05
• 公開（公告）號: CN104714372A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 閆觀勇;李思坤;王向朝
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純;張寧展

1.一種用于光刻機的光源掩模優化方法，優化方法為梯度法，目標函數為F，其特征在于，該方法包括如下步驟：

1)初始化光源和掩模：所述的光源由子光源組成，每個子光源都是對稱的，設定單獨優化掩模的總次數為NM，單獨優化光源的總次數為NS，同時優化光源和掩模的總次數為NSM，設定初始掩模迭代次數為0，初始光源迭代次數為0，初始光源掩模同時迭代的次數為0；

2)計算目標函數F對掩模的梯度，所述的計算目標函數F對掩模的梯度分為兩個步驟：

i)計算目標函數F對空間像強度矢量I的梯度；

ii.)計算空間像強度矢量I對掩模的梯度；

將掩模迭代次數加1作為新的掩模迭代次數對掩模進行迭代更新；

3)如果掩模迭代次數小于NM，則進行步驟2)，否則轉步驟4)；

4)計算目標函數F對光源的梯度，所述的計算目標函數F對光源的梯度分為兩個步驟：

i)計算目標函數F對空間像強度矢量I的梯度；

ii)計算空間像強度矢量I對光源的梯度；

將光源迭代次數加1作為新的光源迭代次數對光源進行迭代更新；

5)如果光源迭代次數小于NS，則進行步驟4)，否則轉步驟6)；

6)如果光源掩模同時迭代的次數小于NSM，則轉入步驟2)到5)，并將光源掩模同時迭代的次數加1作為新的光源掩模同時迭代的次數，否則轉步驟7)；

7)采用使目標函數F最優的閾值對掩模進行二值化。

2.根據權利要求1所述的用于光刻機的光源掩模優化方法，特征在于所述的目標函數F是關于空間像強度矢量I的函數，目標函數F包括圖形誤差、工藝窗口、圖形位置誤差、掩模誤差增強因子。

3.根據權利要求1所述的用于光刻機的光源掩模優化方法，特征在于所述的目標函數F對空間像強度矢量I的梯度采用解析公式計算，或按照梯度的定義計算。

4.根據權利要求1所述的用于光刻機的光源掩模優化方法，特征在于所述的目標函數F對空間像強度矢量I的梯度為：

dF/dI＝[dF/dI₁,dF/dI₂,…,dF/dI_N]^T

其中，空間像強度矢量I＝[I₁,I₂,…,I_N]^T，N為空間像總點數，上標“T”表示轉置；

按照梯度的定義計算dF/dI_j(1≤j≤N)的方法為：

其中，δI的絕對值小于I_j絕對值的1/2。