[發明專利]一種耐高溫抗燒蝕碳化鉭復合涂層及其制備方法在審
| 申請號: | 201510097131.0 | 申請日: | 2015-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN104651771A | 公開(公告)日: | 2015-05-27 |
| 發明(設計)人: | 普慧;牛亞然;蘇運娟;趙君;黃利平;季珩;鄭學斌 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C23C4/10 | 分類號: | C23C4/10;C23C4/12 |
| 代理公司: | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;鄭優麗 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 耐高溫 抗燒蝕 碳化 復合 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種耐高溫抗燒蝕碳化鉭復合涂層,其特征在于,所述碳化鉭復合涂層由TaC主相和SiC第二相組成,其中SiC第二相的含量為5-30vol.%。
2.根據權利要求1所述的碳化鉭復合涂層,其特征在于,所述碳化鉭復合涂層的厚度為30-150μm。
3.一種權利要求1或2所述碳化鉭復合涂層的制備方法,其特征在于,包括:
根據所述碳化鉭復合涂層的組成,分別稱取碳化鉭粉體、碳化硅粉體,均勻混合后,得到原料粉體;
采用真空等離子體噴涂工藝,將原料粉體噴涂到基材上,形成所述碳化鉭復合涂層。
4.根據權利要求3所述的碳化鉭復合涂層的制備方法,其特征在于,采用的TaC粉體粒徑為5-80μm、純度大于98.0wt.%;采用的SiC粉體粒徑為5-60μm、純度大于98.0wt.%。
5.根據權利要求3或4所述的制備方法,其特征在于,真空等離子體噴涂工藝的參數包括:等離子體氣體?Ar:30-40?slpm;粉末載氣?Ar:2-10?slpm;等離子體氣體?H2:2-20?slpm,優選7-20slpm;噴涂距離:120-350?mm;噴涂功率:30-52?kw,優選32-52kW;送粉速率:5-30?r/分鐘;噴涂壓力:100-800?mbar。
6.根據權利要求3-5中任一所述的制備方法,其特征在于,所述基材經過表面預處理。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院上海硅酸鹽研究所;,未經中國科學院上海硅酸鹽研究所;許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510097131.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種鏡片真空鍍膜機用旋轉臺
- 下一篇:一種高鋅含鈧鋁合金的固溶熱處理方法
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





