[發(fā)明專利]一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510094227.1
• 申請(qǐng)日: 2015-03-03
• 公開（公告）號(hào): CN104634767B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張保平;翁國(guó)恩;梅洋;張江勇;應(yīng)磊瑩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廈門大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/63
• 分類號(hào): G01N21/63
• 代理公司: 廈門南強(qiáng)之路專利事務(wù)所(普通合伙)35200
• 代理人: 馬應(yīng)森

1.一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1)在藍(lán)寶石襯底GaN基外延片上制作圖形化分布布拉格反射鏡，然后在表面蒸發(fā)或?yàn)R射第一含金屬層；

2)在襯底表面蒸發(fā)或?yàn)R射第二含金屬層；

3)將第一含金屬層和第二含金屬層貼合，在真空或氮?dú)夥諊骆I合，再通過(guò)激光剝離技術(shù)去除藍(lán)寶石襯底；

4)對(duì)去除藍(lán)寶石襯底后的GaN基外延片進(jìn)行器件分離，形成二維陣列結(jié)構(gòu)，接著蒸發(fā)或?yàn)R射金屬電極、分布布拉格反射鏡，最后沉積聚合物涂層，完成器件制作。

2.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟1)中，所述制作圖形化分布布拉格反射鏡采用光刻、剝離、腐蝕或刻蝕方法。

3.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟1)中，所述分布布拉格反射鏡由兩種不同折射率的介質(zhì)膜交錯(cuò)迭加而成，每層介質(zhì)膜的厚度為1/4中心波長(zhǎng)，介質(zhì)膜組合采用TiO₂/SiO₂或Ta₂O₅/SiO₂。

4.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟1)中，所述第一含金屬層的組成為Au、In、Sn、Cu、Pb鍵合金屬中的至少一種或至少兩種的合金。

5.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟2)中，所述襯底采用硅片。

6.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟2)中，所述第二含金屬層的組成為Au、In、Sn、Cu、Pb鍵合金屬中的至少一種或至少兩種的合金。

7.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟4)中，所述器件分離采用腐蝕或感應(yīng)耦合等離子體刻蝕方法。

8.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟4)中，所述金屬電極采用Ni/Au、Cr/Au或Ti/Au。

9.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟4)中，所述金屬電極、分布布拉格反射鏡、聚合物涂層采用光刻、剝離、腐蝕或刻蝕方法。

10.如權(quán)利要求1所述一種氮化鎵基諧振腔氣體傳感器的制備方法，其特征在于在步驟4)中，所述聚合物涂層的選取取決于被探測(cè)氣體，該聚合物涂層在吸收被探測(cè)氣體后必須能夠引起厚度與折射率的變化，若探測(cè)丙酮，則選用聚苯乙烯。