[發(fā)明專利]減反射膜、其制備方法及減反射玻璃

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510083980.0
• 申請(qǐng)日: 2015-02-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104691040B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余鵬;王春平;鄭建萬(wàn);常小喜;汪學(xué)軍;方鳳軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宜昌南玻顯示器件有限公司
• 主分類號(hào): B32B9/04
• 分類號(hào): B32B9/04;B32B17/06;B32B37/02
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224
• 代理人: 生啟

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種減反射膜、其制備方法及減反射玻璃。

背景技術(shù)

隨著智能觸控手機(jī)、平板的暢銷，越來(lái)越多的人養(yǎng)成使用觸摸電子產(chǎn)品的習(xí)慣，觸摸電子產(chǎn)品的屏幕上方具有蓋板玻璃。但由于玻璃具有反射光的作用，在室外陽(yáng)光或室內(nèi)強(qiáng)光強(qiáng)于LCD背光源的透射光時(shí)，玻璃的每個(gè)表面都會(huì)存在4.2％左右的反射光線反射進(jìn)人眼，導(dǎo)致眼睛看不清屏幕上顯示內(nèi)容，影響產(chǎn)品的使用。

現(xiàn)有的減反射玻璃在玻璃基板的單面或者雙面制備減反射膜，從而在室外陽(yáng)光或者室內(nèi)強(qiáng)光下，光的反射率較低，創(chuàng)造清晰透明的視覺(jué)空間，提升觸摸電子產(chǎn)品在陽(yáng)光下或者強(qiáng)光下的可讀性。

然而，現(xiàn)有的減反射膜表面硬度不夠高，在使用過(guò)程中容易劃傷，從而影響產(chǎn)品的美觀；同時(shí)現(xiàn)有的減反射膜的絕緣阻值在1GΩ以下，絕緣性能不佳。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要提供一種硬度較高且絕緣性能較好的減反射膜、其制備方法及減反射玻璃。

一種減反射膜，包括依次層疊的第一折射率調(diào)整層、第二折射率調(diào)整層、第三折射率調(diào)整層、第四折射率調(diào)整層及第五折射率調(diào)整層；

所述第一折射率調(diào)整層的材料為Si₃N₄；

所述第二折射率調(diào)整層的材料為SiO₂；

所述第三折射率調(diào)整層的材料為SiN；

所述第四折射率調(diào)整層的材料為SiO₂；

所述第五折射率調(diào)整層的材料為SiN；

所述第一折射率調(diào)整層的厚度為12nm～18nm；

所述第二折射率調(diào)整層的厚度為35nm～40nm；

所述第三折射率調(diào)整層的厚度為32nm～38nm；

所述第四折射率調(diào)整層的厚度為90nm～105nm；

所述第五折射率調(diào)整層的厚度為5nm～10nm。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述第一折射率調(diào)整層的厚度為10nm；所述第二折射率調(diào)整層的厚度為62nm；所述第三折射率調(diào)整層的厚度為38nm；所述第四折射率調(diào)整層的厚度為35nm；所述第五折射率調(diào)整層的厚度為24nm。

一種減反射玻璃，包括玻璃基板及層疊于所述玻璃基板表面的上述的減反射膜。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述第一折射率調(diào)整層層疊于所述玻璃基板的表面。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述玻璃基板的材料為高鋁玻璃，厚度為0.5μm～0.56μm。

在一個(gè)實(shí)施例中，還包括形成于所述玻璃基板與所述減反射膜之間且依次層疊的第一導(dǎo)電層、第一感光膠層、第二導(dǎo)電層及第二感光膠層，所述第一導(dǎo)電層層疊于所述玻璃基板表面，所述第一折射率層層疊于所述第二感光膠層的表面。

在一個(gè)實(shí)施例中，還包括形成于所述玻璃遠(yuǎn)離所述第一導(dǎo)電層的一側(cè)表面的上述的減反射膜。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電層的材料為ITO，厚度為30nm～45nm；所述第二導(dǎo)電層的材料為ITO，厚度為200nm～250nm。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述第一感光膠層的材料為UV感光樹(shù)脂，厚度為1.2μm～1.5μm；所述第二感光膠層的材料為UV剛光樹(shù)脂，厚度為1.2μm～1.5μm。

一種減反射膜的制備方法，包括如下步驟：

提供基底；

在所述基底表面依次沉積第一折射率調(diào)整層、第二折射率調(diào)整層、第三折射率調(diào)整層、第四折射率調(diào)整層、第五折射率調(diào)整層，所述第一折射率調(diào)整層的材料為SiO₂，所述第二折射率調(diào)整層的材料為Si₃N₄，所述第三折射率調(diào)整層的材料為SiN，所述第四折射率調(diào)整層的材料為SiO₂，所述第五折射率調(diào)整層的材料為SiN，所述第一折射率調(diào)整層的厚度為10nm～15nm，所述第二折射率調(diào)整層的厚度為28nm～35nm，所述第三折射率調(diào)整層的厚度為31nm～36nm，所述第四折射率調(diào)整層的厚度為90nm～110nm，所述第五折射率調(diào)整層的厚度為5nm～10nm。

這種減反射膜，包括第一折射率調(diào)整層、第二折射率調(diào)整層、第三折射率調(diào)整層、第四折射率調(diào)整層及第五折射率調(diào)整層，透過(guò)率高低結(jié)合的合適厚度的膜層結(jié)構(gòu)，使得減反射膜減反射效果較好，應(yīng)用于電子產(chǎn)品時(shí)，在室外陽(yáng)光或室內(nèi)強(qiáng)光下光的反射率為1％～2.5％；通過(guò)Si₃N₄、SiN及SiO₂的結(jié)合，使得減反射膜的硬度較好，絕緣電阻大于1GΩ，絕緣性能較好，從而能保證電子產(chǎn)品的絕緣性能。

附圖說(shuō)明