[發(fā)明專利]一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510068619.0
• 申請日: 2015-02-10
• 公開（公告）號: CN104746076B
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張玉婷
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳金曜來科技有限公司
• 主分類號: C23C28/02
• 分類號: C23C28/02;C23C14/32;C23C14/35
• 代理公司: 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司44104
• 代理人: 周克佑,何秋林

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法。

背景技術(shù)

手表刻度盤，俗稱表面板，有各種各樣的外觀樣式，從材料到美飾設(shè)計(jì)、從加工方法到涂裝工藝，呈現(xiàn)五花八門，也花盡人們的心思。最常用的材料是鋁和銅片，常用的美飾手法有壓紋、絲印、鑲嵌、油漆、染色等數(shù)不勝數(shù)。有一種不常見的方式是采用貝殼作為刻度盤的基材。貝殼表面顯露出豐富的干涉色彩，具有獨(dú)特的光澤和紋理，具有特殊的美感，非常時(shí)尚。貝殼刻度盤傳統(tǒng)的美飾工藝是油漆和染色，但均無法提升其金屬質(zhì)感或陶瓷質(zhì)感。

如果采用真空鍍膜技術(shù)在貝殼刻度盤上鍍上很薄的金屬膜或金屬化合物薄膜，不但使可以使貝殼刻度盤呈現(xiàn)出多種色彩，如銀白色、金色、玫瑰金色、黑色、藍(lán)色、咖啡色等，還可以使貝殼顯現(xiàn)出金屬質(zhì)感或陶瓷質(zhì)感，且由于該鍍層很薄呈半透明狀，人們還可以看見貝殼上特有的變幻的珍珠光澤和紋理，具有獨(dú)特的藝術(shù)美感。

2012年已終止的中國實(shí)用新型專利200820701979.9，名稱為“一種貝殼裝飾片”，該專利公開了在貝殼基材的外表面鍍覆一層金屬膜或陶瓷膜，膜厚不超過1微米，基材和薄膜之間設(shè)有一層鈦膜，但未公開鍍膜的工藝。

2009年4月29日公開的申請?zhí)枮?00810218416.5中國發(fā)明專利，名稱為“一種貝殼裝飾片及其加工方法”，該專利公開了一種在貝殼片上真空鍍金屬膜和陶瓷膜的方法：采用金屬或陶瓷材料靶材、用中頻真空濺射鍍膜。先在基材上進(jìn)行離子清冼，再預(yù)鍍一層鈦膜，再后在其上用中頻濺射鍍金屬膜或陶瓷膜，膜厚不超過1微米，鍍膜時(shí)溫度為70度，出爐為60度。

上述專利所涉及的在貝殼上真空鍍陶瓷膜的工藝是不合理的，業(yè)內(nèi)人士都清楚，陶瓷材料的靶材是不導(dǎo)電的，是不能用中頻濺射法濺射沉積成陶瓷膜的，所以該發(fā)明是不能實(shí)現(xiàn)的。

此外，貝殼是生物材料，含水份多，材質(zhì)較脆，真空鍍膜會大量放氣，且容易碎裂，該專利沒有提及在貝殼上真空鍍膜關(guān)鍵的技術(shù)措施以適應(yīng)此特點(diǎn)，這往往導(dǎo)致鍍膜的成敗。

另外，該專利提及在貝殼預(yù)鍍鈦底層前進(jìn)行離子清洗，但沒有提及負(fù)偏壓參數(shù)，如果按常規(guī)離子清洗工藝參數(shù)，該操作非常容易導(dǎo)致貝殼碎裂。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能顯著提高成品率的在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法。

本發(fā)明通過如下技術(shù)方案解決其技術(shù)問題：一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，包括在鍍膜前將干凈干燥的貝殼手表刻度盤在80℃以下進(jìn)行2個(gè)小時(shí)以上烘烤的步驟，以給貝殼排濕排氣，該步驟能顯著提升在貝殼上真空鍍膜的成品率。

作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，所述在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法具體包括如下步驟：

1）抽真空：將干凈干燥的的貝殼手表刻度盤放入真空爐的鍍膜室內(nèi)，并抽真空；

2）加熱：在真空爐中將貝殼手表刻度盤在80℃以下進(jìn)行2個(gè)小時(shí)以上烘烤；

3）采用陰極電弧鍍底層，采用中頻濺射法，或中頻濺射法和/或陰極電弧鍍表面層，所述底層和表面層均采用低偏壓鍍膜；

4）出爐：貝殼手表刻度盤隨爐冷卻后出爐。

本方法采用低偏壓陰極電弧鍍底層，并不采用高能量輝光清洗和離子清洗，有利于降低貝殼的碎片率，進(jìn)一步提高本發(fā)明貝殼手表刻度盤的成品率。

步驟3）的具體過程如下：

向鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體，根據(jù)顏色需求，選擇相應(yīng)顏色對應(yīng)的方法鍍底層和表面層：

底層，底層膜厚在0.1微米以下，鍍膜溫度在80℃以下：

a)金色和玫瑰金色：采用Ti陰極電弧鍍底層；

b)銀白色：采用Ti陰極電弧鍍底層；

c)槍黑色：采用Cr陰極電弧鍍底層；

表面層，表面層膜厚在0.5微米以下，鍍膜溫度在80℃以下：

d)金色：采用Au靶直流磁控濺射鍍表面層；

e)玫瑰金色：采用玫瑰金即Au和Cu的合金靶和Cu靶用磁控濺射鍍表面層；

f)銀白色：采用Cr陰極電弧鍍表面層；

g)槍黑色：采用多層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，包括中間層和頂層，所述中間層由兩層以上膜層構(gòu)成：

g-1）中間層的第一層：采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC、碳量梯度漸增的梯度層；

g-2)中間層的最上層：采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC的梯度層，獲得碳量梯度漸增而鈦量梯度漸降的梯度層，最后再鍍純非晶碳層；