[發明專利]一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法

有效

• 申請號: 201510068619.0
• 申請日: 2015-02-10
• 公開（公告）號: CN104746076B
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: 張玉婷
• 申請（專利權）人: 深圳金曜來科技有限公司
• 主分類號: C23C28/02
• 分類號: C23C28/02;C23C14/32;C23C14/35
• 代理公司: 廣州知友專利商標代理有限公司44104
• 代理人: 周克佑,何秋林

1.一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，包括在鍍膜前將干凈的貝殼手表刻度盤在80℃以下進行2個小時以上烘烤的步驟；

具體步驟如下：

1)抽真空：將干凈干燥的貝殼手表刻度盤放入真空爐的鍍膜室內，并抽真空；

2)加熱：在真空爐中將貝殼手表刻度盤在80℃以下進行2個小時以上烘烤；

3)采用陰極電弧鍍底層，采用中頻濺射法和/或陰極電弧鍍表面層，所述底層和表面層均采用低偏壓鍍膜，鍍膜溫度均控制在80℃以下，所述的低偏壓指偏壓在-30V以下；

4)出爐：貝殼手表刻度盤隨爐冷卻后出爐。

2.根據權利要求1所述的在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，步驟3)的具體過程如下：

向鍍膜室內充入惰性氣體，根據顏色需求，選擇相應顏色對應的方法鍍底層和表面層：

底層，底層膜厚在0.1微米以下：

a)金色和玫瑰金色：采用Ti陰極電弧鍍底層；

b)銀白色：采用Ti陰極電弧鍍底層；

c)槍黑色：采用Cr陰極電弧鍍底層；

表面層，表面層膜厚在0.5微米以下：

d)金色：采用Au靶直流磁控濺射鍍表面層；

e)玫瑰金色：采用玫瑰金即Au和Cu的合金靶和Cu靶直流磁控濺射鍍表面層；

f)銀白色：采用Cr陰極電弧鍍表面層；

g)槍黑色：為多層復合膜結構，包括中間層和頂層，所述中間層由兩層以上膜層構成：

g-1)中間層的第一層：采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC、碳量梯度漸增的梯度層；

g-2)中間層的最上層：采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC的梯度層，獲得碳量梯度漸增而鈦量梯度漸降的梯度層，最后再鍍純非晶碳層；

g-3)頂層：采用石墨中頻磁控濺射靶，并充入乙炔或甲烷反應氣體，鍍含H的非晶碳膜層。

3.根據權利要求2所述的在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，在步驟g-1)與g-2)之間還包括重復步驟g-1)一次以上的步驟。

4.根據權利要求1所述的在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，步驟4)中貝殼手表刻度盤隨爐冷卻到50℃以下后出爐。