[發(fā)明專利]分類方法及分類設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510040744.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104899901B | 公開(公告)日: | 2018-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 野間唯;此島真喜子 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士通株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G06T11/00 | 分類號(hào): | G06T11/00;G06T3/00;G06F21/32 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227 | 代理人: | 朱勝,陳煒 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分類 方法 設(shè)備 | ||
1.一種分類方法,包括:
基于關(guān)于特征值空間的定義域的信息設(shè)置投影點(diǎn)的位置;以及
通過(guò)使用所設(shè)置的投影點(diǎn)的位置,將所述特征值空間中存在的向量投影到維度比所述特征值空間的維度高至少一個(gè)維度的空間中存在的球面,
其中,所述設(shè)置包括:當(dāng)所述特征值空間的定義域包含在橢圓區(qū)域中時(shí),將所述投影點(diǎn)設(shè)置在所述球面外部的、穿過(guò)所述球面的與所述特征值空間相對(duì)的一側(cè)的位置中,以及
當(dāng)所述特征值空間的定義域包含在通過(guò)用一個(gè)平面劃分所述特征值空間而獲得的區(qū)域中時(shí),將所述投影點(diǎn)設(shè)置在所述球面的表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分類方法,其中,所述設(shè)置包括基于關(guān)于所述特征值空間的定義域的信息設(shè)置所述球面的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分類方法,其中,所述設(shè)置包括通過(guò)一次或更多次執(zhí)行以下處理來(lái)設(shè)置包括所述投影點(diǎn)的位置和所述球面的位置的第一參數(shù):將所述第一參數(shù)設(shè)置為所述第一參數(shù)、以及在參數(shù)空間中接近于所述第一參數(shù)的一個(gè)或更多個(gè)第二參數(shù)中給出最高近似精度的參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分類方法,其中,所述設(shè)置包括通過(guò)一次或更多次執(zhí)行以下處理來(lái)設(shè)置包括所述投影點(diǎn)的位置和所述球面的位置的第一參數(shù):當(dāng)通過(guò)將參數(shù)空間中接近于所述第一參數(shù)的第二參數(shù)的近似精度除以所述第一參數(shù)的近似精度而獲得的值大于隨機(jī)數(shù)時(shí),將所述第一參數(shù)設(shè)置為所述第二參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分類方法,其中,所述設(shè)置包括:設(shè)置被假定為荷電粒子并且被布置在所述球面中的多個(gè)投影點(diǎn)中給出最高近似精度的投影點(diǎn)。
6.一種分類設(shè)備,包括:
設(shè)置單元,基于關(guān)于特征值空間的定義域的信息設(shè)置投影點(diǎn)的位置;以及
投影單元,通過(guò)使用所設(shè)置的投影點(diǎn)的位置,將所述特征值空間中存在的向量投影到維度比所述特征值空間的維度高至少一個(gè)維度的空間中存在的球面,
其中,當(dāng)所述特征值空間的定義域包含在橢圓區(qū)域中時(shí),所述設(shè)置單元將所述投影點(diǎn)設(shè)置在所述球面外部的、穿過(guò)所述球面的與所述特征值空間相對(duì)的一側(cè)的位置中,以及
當(dāng)所述特征值空間的定義域包含在通過(guò)用一個(gè)平面劃分所述特征值空間而獲得的區(qū)域中時(shí),所述設(shè)置單元將所述投影點(diǎn)設(shè)置在所述球面的表面上。
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