[發(fā)明專利]一種N型單晶片的P型摻雜方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510035930.5 | 申請日: | 2015-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN104538504B | 公開(公告)日: | 2017-08-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蔡永梅;蔣方丹;金浩 | 申請(專利權)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/225;H01L21/268 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司11227 | 代理人: | 羅滿 |
| 地址: | 314416 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶片 摻雜 方法 | ||
1.一種N型單晶片的P型摻雜方法,其特征在于,包括:
采用絲網(wǎng)印刷的方法在N型單晶片的表面設置含有P型元素的摻雜漿料,形成太陽能電池電極的圖案,所述摻雜漿料的厚度為7微米至10微米,包括端點值;
烘干所述摻雜漿料,所述烘干的溫度為300℃至350℃,包括端點值,所述烘干的時間為6分鐘至10分鐘,包括端點值;
激光掃描所述摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中;
所述P型元素為硼,所述N型單晶片的材質為硅。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,利用532ns綠光固體激光器對所述摻雜漿料進行激光掃描。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述激光頻率為80KHz至150KHz,包括端點值。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法,其特征在于,所述激光掃描的速度為100mm/s至1000mm/s。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





