[發明專利]一種用于玻璃鈍化整流芯片工藝中不含光敏劑的光刻膠組合物及其應用有效
| 申請號： | 201510014204.5 | 申請日： | 2015-01-08 |
| 公開（公告）號： | CN104656373B | 公開（公告）日： | 2018-10-12 |
| 發明（設計）人： | 卞玉桂 | 申請（專利權）人： | 蘇州瑞紅電子化學品有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215124 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 gprc 工藝 中不含 光敏劑 光刻 組合 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于玻璃鈍化整流芯片工藝中不含光敏劑的光刻膠組合物，其特征在于：所述光刻膠的組成及質量百分比為，
(A)環化橡膠的二甲苯溶液 25～35％
(B)納米級1，1，1-三(4-羥基苯基)乙烷 1～5％。
2.根據權利要求1所述的用于玻璃鈍化整流芯片工藝中不含光敏劑的光刻膠組合物，其特征在于：所述成分(A)為，環化橡膠的二甲苯溶液，其環化橡膠分子量為45±0.5萬，環化率控制在62±1％。
3.一種權利要求1或2所述的不含光敏劑的光刻膠組合物在玻璃鈍化整流芯片工藝中的應用。
4.根據權利要求3所述的不含光敏劑的光刻膠組合物在玻璃鈍化整流芯片工藝中的應用，其特征在于：不含光敏劑的光刻膠組合物應用在氫氟酸和硝酸體系的腐蝕液的蝕刻過程中。
5.根據權利要求4所述的不含光敏劑的光刻膠組合物在玻璃鈍化整流芯片工藝中的應用，其特征在于：其蝕刻深度在100um以上。
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