[發明專利]設計度量目標的方法、具有度量目標的襯底、測量重疊的方法、以及器件制造方法有效
| 申請號： | 201480079475.2 | 申請日： | 2014-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN106462076B | 公開（公告）日： | 2018-06-22 |
| 發明（設計）人： | A·J·登博夫;K·布哈塔查里亞 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華;張寧 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 度量 光柵 輻射 輻射分量 光刻工藝 光柵衍射 配方 測量 光柵設計 可重復性 目標設計 器件制造 照明輻射 插入層 最大化 波長 襯底 均一 衍射 觀測 穿過 | ||
【權利要求書】：
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