[發(fā)明專利]用于較小晶片及晶片片段的晶片載具有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480065526.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105793974B | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邁克爾·S·考克斯;謝麗爾·A·克內(nèi)佩弗萊雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/673 | 分類號(hào): | H01L21/673;H01L21/683;H02N13/00;B23Q3/15 |
| 代理公司: | 11006 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國;趙靜 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 較小 晶片 片段 | ||
本文描述的實(shí)施方式涉及一種用于固定及傳送基板的設(shè)備及方法。其中設(shè)置有一或更多個(gè)靜電夾持電極的基板載具靜電地將基板耦接至該載具。視情況地,也可將掩模靜電地耦接至載具,且該掩模可設(shè)置于未由基板占據(jù)的載具的一區(qū)域之上。在一實(shí)施方式中,提供多個(gè)電極組件,以使得第一電極組件將基板夾持至載具,且第二電極組件將掩模夾持至該載具。在另一實(shí)施方式中,在載具中形成凹穴,且電極組件在該凹穴內(nèi)提供夾持能力。
領(lǐng)域
本文描述的實(shí)施方式一般涉及基板載具,該基板載具中設(shè)置有經(jīng)配置用于傳送及固定基板的靜電夾盤。更特定言之,本文描述的實(shí)施方式涉及用于較小晶片及晶片片段的晶片載具。
相關(guān)技術(shù)的描述
半導(dǎo)體處理設(shè)備一般而言經(jīng)設(shè)計(jì)用于在單一尺寸基板上執(zhí)行工藝。機(jī)器人刀刃反復(fù)地將載具(該載具上設(shè)置有基板)移入及移出處理腔室。載具及機(jī)器人刀刃的大小經(jīng)特定地調(diào)整以容納單一尺寸基板,以在將基板傳送且定位于腔室內(nèi)期間改良基板傳送特征,及防止對(duì)基板的損害。然而,已為較大基板尺寸開發(fā)的某些技術(shù)并不適用于較小的基板尺寸。此外,厚度低至100μm的越來越薄的基板用于微電子制造中。因此,由于處理設(shè)備不可用且該處理設(shè)備經(jīng)設(shè)置以容納小或薄的基板,所以可能難以在小或薄的基板上執(zhí)行某些工藝。此外,基板的處理片或部分在產(chǎn)品開發(fā)或工藝調(diào)整期間可能是有利的,然而,當(dāng)前的傳送設(shè)備及技術(shù)通常無法足以傳送基板片。
因此,在此項(xiàng)技術(shù)中需要一種用于傳送多種尺寸及厚度的基板的改良的基板載具。
本文描述的實(shí)施方式涉及用于支撐基板的設(shè)備及方法。該設(shè)備可為基板載具的形式,該基板載具中設(shè)置有一或更多個(gè)靜電夾持電極。基板載具經(jīng)配置以將基板靜電地耦接至載具。視需要,基板載具可經(jīng)配置以將掩模靜電地耦接至載具,該掩模設(shè)置于未由基板占據(jù)的載具的一區(qū)域之上。在一實(shí)施方式中,提供多個(gè)電極組件,以使得第一電極組件將基板夾持至載具,及第二電極組件將掩模夾持至載具。在另一實(shí)施方式中,在載具中形成基板接收凹穴,且電極組件在該凹穴內(nèi)提供夾持能力。
在一實(shí)施方式中,提供一種支撐基板的方法。該方法包含將基板定位于載具上。載具具有設(shè)置于該載具的主體內(nèi)的靜電夾持電極。主體具有頂表面,該頂表面經(jīng)配置以支撐基板。掩模定位于載具的頂表面之上以限制該基板。激勵(lì)靜電夾持電極且將基板及掩模靜電地夾持至載具。
在另一實(shí)施方式中,提供一種用于支撐基板的方法。該方法包含將基板定位于載具上。該載具具有設(shè)置于該載具的主體內(nèi)的第一靜電夾持電極及第二靜電夾持電極。載具的頂表面經(jīng)配置以支撐基板。第一靜電夾持電極經(jīng)激勵(lì)以將基板固定至載具。掩模圍繞基板定位于載具的頂表面之上。第二靜電夾持電極經(jīng)激勵(lì)以將掩模固定至載具。
在又一實(shí)施方式中,提供用于支撐基板的設(shè)備。該設(shè)備包含載具,該載具具有主體及經(jīng)配置以支撐基板的頂表面。一或更多個(gè)靜電夾持電極設(shè)置于載具主體內(nèi)。也提供掩模。掩模經(jīng)配置以環(huán)繞及暴露載具的頂表面的一或更多個(gè)選擇的區(qū)域。通過將功率施加至一或更多個(gè)靜電夾持電極,掩模能夠靜電地耦接至載具的頂表面。所述頂表面的第一區(qū)域設(shè)置于所述頂表面的第二區(qū)域之下。
因此,以可詳細(xì)了解上文所述的本公開內(nèi)容的特征的方式,對(duì)以上簡短總結(jié)的本公開內(nèi)容的更詳細(xì)的描述可參閱實(shí)施方式獲得,所述實(shí)施方式中的一些實(shí)施方式在附圖中圖示。然而,應(yīng)注意,附圖僅圖示本公開內(nèi)容的典型實(shí)施方式,且因?yàn)楸竟_內(nèi)容承認(rèn)其他同等有效的實(shí)施方式,所以所述附圖并不欲視為本公開內(nèi)容的范圍的限制。
圖1圖示根據(jù)本文公開的一個(gè)實(shí)施方式的靜電夾盤的分解圖。
圖2A圖示根據(jù)本文公開的一個(gè)實(shí)施方式的具有設(shè)置于載具上的電極組件的該載具的平面圖。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





