[發(fā)明專利]絕緣電線及線圈有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480065037.0 | 申請日： | 2014-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN105793933B | 公開（公告）日： | 2018-02-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 鍋島秀太;本田佑樹;菊池英行 | 申請（專利權(quán)）人： | 日立金屬株式會社 |
| 主分類號： | H01B7/02 | 分類號： | H01B7/02;H01B7/00;H01F5/06;H01F27/28 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人： | 金鮮英,馬鐵軍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 絕緣 電線 線圈 | ||
1.一種絕緣電線，是具備扁平導體以及設(shè)置于所述扁平導體周圍的絕緣皮膜的絕緣電線，其特征在于，所述絕緣皮膜由在分子中含有酰亞胺結(jié)構(gòu)的樹脂形成，所述樹脂為僅由酸成分和二胺成分構(gòu)成的聚酰亞胺樹脂，
作為所述二胺成分，包含4,4’-雙(4-氨基苯氧基)聯(lián)苯(BAPB)，
所述絕緣皮膜在50℃～400℃的范圍測定時的由損失彈性模量與儲存彈性模量之比表示的損失正切tanδ的峰值小于1.0。
2.如權(quán)利要求1所述的絕緣電線，其特征在于，所述絕緣皮膜中，所述損失正切tanδ的峰值為0.8以下。
3.如權(quán)利要求1所述的絕緣電線，其特征在于，所述樹脂中，酰亞胺濃度為28質(zhì)量％以上37質(zhì)量％以下。
4.如權(quán)利要求2所述的絕緣電線，其特征在于，所述樹脂中，酰亞胺濃度為28質(zhì)量％以上37質(zhì)量％以下。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的絕緣電線，其特征在于，所述絕緣皮膜如下形成：
將以4,4’-雙(4-氨基苯氧基)聯(lián)苯(BAPB)、選自4,4’-二氨基二苯醚(ODA)、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷(BAPP)和1,3-雙(4-氨基苯氧基)苯(TPE-R)中的一種以上、以及選自均苯四甲酸酐(PMDA)和3,3’，4,4’-聯(lián)苯四羧酸二酐(BPDA)中的一種以上為原料而得到的聚酰胺酸涂料涂布于所述扁平導體的周圍后，進行烘烤。
6.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的絕緣電線，其特征在于，所述絕緣皮膜的皮膜厚度為50μm以上。
7.如權(quán)利要求5所述的絕緣電線，其特征在于，所述絕緣皮膜的皮膜厚度為50μm以上。
8.一種線圈，其特征在于，使用權(quán)利要求1～7中任一項所述的絕緣電線而形成。
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