[發(fā)明專利]投射曝光方法和微光刻的投射曝光設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480054797.1
• 申請日: 2014-10-01
• 公開（公告）號: CN105637420B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發(fā)明（設計）人: B.比特納;N.瓦布拉;M.馮霍登伯格;S.施奈德
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍;王蕊瑞

1.一種投射曝光方法，以圖案的至少一個像，曝光輻射敏感基板，所述方法包含以下步驟：

在照明系統(tǒng)與投射曝光設備的投射鏡頭之間提供所述圖案，使得所述圖案設置于所述投射鏡頭的物平面區(qū)域內并能夠通過所述投射鏡頭成像至所述投射鏡頭的像平面中，所述像平面關于所述物平面光學共軛，其中所述圖案的成像相關特性能夠由圖案數(shù)據(jù)表征；

根據(jù)特定于使用案例并能夠由照明設定數(shù)據(jù)表征的照明設定，由所述照明系統(tǒng)提供的照明輻射照明所述圖案的照明區(qū)域；

其特征在于：

確定使用案例數(shù)據(jù)，所述案例數(shù)據(jù)特定于所述使用案例并包含圖案數(shù)據(jù)和/或照明設定數(shù)據(jù)；

使用所述使用案例數(shù)據(jù)，確定成像規(guī)格數(shù)據(jù)；

為將所述投射鏡頭的成像行為適配于所述使用案例的目的，以依賴于所述成像規(guī)格數(shù)據(jù)的方式，通過所述投射鏡頭的控制單元，控制所述投射鏡頭的可控光學部件；

借助于適配于所述使用案例的投射鏡頭，將所述圖案成像至所述基板上，以及

關于所述使用案例數(shù)據(jù)確定成像規(guī)格數(shù)據(jù)，使得至少兩個場點的成像規(guī)格數(shù)據(jù)在至少一個成像規(guī)格方面不同。

2.如權利要求1所述的投射曝光方法，其特征在于，所述圖案數(shù)據(jù)和/或所述照明設定數(shù)據(jù)中的至少一部分通過用于在所述投射鏡頭上獲取數(shù)據(jù)的一個或多個測量確定。

3.如權利要求1所述的投射曝光方法，其特征在于，確定所述成像規(guī)格數(shù)據(jù)所需的所有使用案例數(shù)據(jù)通過所述投射鏡頭上的一個測量或多個測量確定。

4.如權利要求1或2或3所述的投射曝光方法，其特征在于，所述圖案數(shù)據(jù)包含至少核心區(qū)域結構數(shù)據(jù)，所述核心區(qū)域結構數(shù)據(jù)含有關于所述核心區(qū)域結構的定量信息，其中所述核心區(qū)域為所述圖案中具有相互平行線的組的最小線間距和/或最小周期性長度的區(qū)域，且所述核心區(qū)域的線形成所述核心區(qū)域結構。

5.如權利要求1、2或3所述的投射曝光方法，其特征在于，所述圖案數(shù)據(jù)包含核心區(qū)域結構定向數(shù)據(jù)，所述核心區(qū)域結構定向數(shù)據(jù)表示所述圖案的核心區(qū)域結構的線的定向。

6.如權利要求5所述的投射曝光方法，其特征在于，所述核心區(qū)域結構定向數(shù)據(jù)由使用者推導自照明設定數(shù)據(jù)，所述照明設定數(shù)據(jù)含有關于所述照明系統(tǒng)上設定的偶極照明的多個極的定向的信息。

7.如權利要求5所述的投射曝光方法，其特征在于，除所述核心區(qū)域定向數(shù)據(jù)外，所述圖案數(shù)據(jù)還包含選自下組的一個或多個數(shù)據(jù)：

表示所述圖案內的核心區(qū)域結構的線的位置的核心區(qū)域結構位置數(shù)據(jù)；

表示所述圖案的周邊結構的線的定向的周邊區(qū)域結構定向數(shù)據(jù)；

表示所述圖案內的周邊結構的線的位置的周邊區(qū)域結構位置數(shù)據(jù)。

8.如權利要求1所述的投射曝光方法，其特征在于，對成像規(guī)格S_k而言，在針對核心區(qū)域內的第一場點的成像規(guī)格S_k(FP_i)與針對周邊區(qū)域內的第二場點的對應成像規(guī)格S_k(FP_j)之間的規(guī)格比偏離數(shù)值1，使得條件

max(S_k(FP_i)/S_k(FP_j)，S_k(FP_j)/S_k(FP_i))≥α

適用，其中α≥1.5。

9.如權利要求8所述的投射曝光方法，其特征在于，所述成像規(guī)格S_k能夠由奇數(shù)階Zemike系數(shù)或奇數(shù)階Zemike系數(shù)的線性組合描述。