[發(fā)明專利]電子槍裝置以及真空蒸鍍裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480051603.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105555994B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 后田以誠(chéng);失島太郎;增井透 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社愛(ài)發(fā)科 |
| 主分類號(hào): | C23C14/30 | 分類號(hào): | C23C14/30;G21K5/04;H01J37/06 |
| 代理公司: | 北京華夏正合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韓登營(yíng);栗濤 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 絲極 加熱電流 電子束 電子槍裝置 驅(qū)動(dòng)電流 真空蒸鍍裝置 電源單元 切換單元 簡(jiǎn)化設(shè)備 偏壓供給 偏壓施加 供給部 施加 | ||
本發(fā)明提供一種能夠產(chǎn)生多個(gè)電子束且能夠簡(jiǎn)化設(shè)備的電子槍裝置以及真空蒸鍍裝置。電子槍裝置具有第1絲極、第2絲極、電源單元、切換單元以及控制部。第1和第2絲極能夠產(chǎn)生第1和第2電子束。電源單元具有:加熱電流供給部,其供給用于使第1絲極或者第2絲極產(chǎn)生電子束的加熱電流;偏壓供給部,其將偏壓施加給加熱電流。切換單元構(gòu)成為,能夠選擇性地切換第1狀態(tài)和第2狀態(tài),其中,第1狀態(tài)為向第1絲極供給驅(qū)動(dòng)電流的狀態(tài);第2狀態(tài)為向第2絲極供給驅(qū)動(dòng)電流的狀態(tài)。控制部控制第1狀態(tài)和第2狀態(tài)的切換,其中,驅(qū)動(dòng)電流是對(duì)加熱電流施加偏壓后形成的電流。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于真空蒸鍍法(真空蒸發(fā)鍍膜法)等的電子槍裝置以及真空蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
電子槍裝置是通過(guò)加熱絲極來(lái)產(chǎn)生電子束的裝置。電子槍裝置例如用于真空蒸鍍法中的加熱蒸發(fā)源,其構(gòu)成為,通過(guò)對(duì)配置在蒸鍍裝置內(nèi)的蒸發(fā)材料照射電子束并對(duì)其進(jìn)行加熱,能夠使該蒸發(fā)材料蒸發(fā)(例如參照專利文獻(xiàn)1~3)。這種電子槍裝置典型的是,具有用于加熱絲極的加熱電流用電源、用于控制電子束的軌道的線圈以及該線圈用的電源等。另外,如專利文獻(xiàn)4所示,例如采用2個(gè)電子槍裝置來(lái)進(jìn)行蒸鍍的方法也眾所周知。
專利文獻(xiàn)1:日本發(fā)明專利公開(kāi)公報(bào)特開(kāi)2013-112894號(hào)
專利文獻(xiàn)2:日本發(fā)明專利公開(kāi)公報(bào)特開(kāi)2002-97566號(hào)
專利文獻(xiàn)3:日本發(fā)明專利公開(kāi)公報(bào)平1-149955號(hào)
專利文獻(xiàn)4:日本發(fā)明專利公開(kāi)公報(bào)特開(kāi)2004-55180號(hào)
但是,在采用2個(gè)電子槍裝置對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行交替加熱的情況下,在使用一個(gè)電子槍裝置時(shí),而使另一個(gè)電子槍裝置停止工作。或者,與該情況相同的是,僅使用2個(gè)電子槍裝置中的一個(gè)電子槍裝置。在這些情況下,可能會(huì)導(dǎo)致該另一個(gè)電子槍裝置的加熱電流用電源和線圈用的電源等設(shè)備過(guò)剩,使設(shè)備成本上升。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述情況,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠產(chǎn)生多個(gè)電子束且能夠簡(jiǎn)化設(shè)備的電子槍裝置以及真空蒸鍍裝置。
為了達(dá)成上述目的,本發(fā)明的一個(gè)技術(shù)方案所涉及的電子槍裝置具有第1絲極、第2絲極、電源單元、切換單元與控制部。
上述第1絲極能夠產(chǎn)生第1電子束。
上述第2絲極能夠產(chǎn)生第2電子束。
上述電源單元具有:加熱電流供給部,其供給用于使上述第1絲極和上述第2絲極中的任意一個(gè)產(chǎn)生電子束的加熱電流;偏壓供給部,其向上述加熱電流施加偏壓。
上述切換單元構(gòu)成為,能夠選擇性地切換第1狀態(tài)和第2狀態(tài),上述第1狀態(tài)為向上述第1絲極供給驅(qū)動(dòng)電流的狀態(tài),上述第2狀態(tài)為向上述第2絲極供給上述驅(qū)動(dòng)電流的狀態(tài),其中,所述驅(qū)動(dòng)電流是對(duì)所述加熱電流施加所述偏壓后形成的電流。
上述控制部控制上述第1狀態(tài)和上述第2狀態(tài)的切換。
附圖說(shuō)明
圖1是表示具有本發(fā)明的第1實(shí)施方式所涉及的電子槍裝置的真空蒸鍍裝置。
圖2是上述電子槍裝置的電路圖。
圖3是表示上述電子槍裝置的控制部的一個(gè)動(dòng)作例的流程圖。
圖4是本發(fā)明的第1實(shí)施方式的比較例所涉及的電子槍裝置的電路圖。
圖5是本發(fā)明的第1實(shí)施方式的參考例所涉及的真空蒸鍍裝置的示意圖。
圖6是本發(fā)明的第2實(shí)施方式所涉及的電子槍裝置的電路圖。
圖7是表示本發(fā)明的電子槍裝置的連接部的結(jié)構(gòu)和連接關(guān)系的局部電路圖。
圖8是本發(fā)明的第2實(shí)施方式的參考例所涉及的電子槍裝置的電路圖。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
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C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





