[發明專利]混合離子源以及質量分析裝置有效
| 申請號: | 201480044977.1 | 申請日: | 2014-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN105474352B | 公開(公告)日: | 2017-07-11 |
| 發明(設計)人: | 佐竹宏之;長谷川英樹;平林由紀子;橋本雄一郎 | 申請(專利權)人: | 株式會社日立高新技術 |
| 主分類號: | H01J49/10 | 分類號: | H01J49/10;G01N27/62 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司11243 | 代理人: | 張敬強,嚴星鐵 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 混合 離子源 以及 質量 分析 裝置 | ||
1.一種離子源,其特征在于,具有:
用于將試樣噴霧的離子化探測器;
在內部具備試樣流路并用于對通過上述試樣流路的試樣進行加熱氣化的加熱室;以及
用于使上述離子化探測器的出口端與上述加熱室的入口端之間的距離變化的驅動部,
上述加熱室的上述試樣流路的內徑比上述離子化探測器的加熱氣體管的外徑小,
通過上述驅動部使上述離子化探測器與上述加熱室之間的距離變化,從而單獨地實施多個離子化法。
2.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
多個離子化法為ESI和APCI或者ESI和APPI。
3.根據權利要求2所述的離子源,其特征在于,
在上述ESI模式中,通過上述加熱室的熱對形成于上述離子化探測器的出口端附近的ESI離子化區域進行加熱。
4.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述加熱室的入口端的形狀為漏斗形狀。
5.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述加熱室的上述試樣流路為一個圓筒或者多個圓筒。
6.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述加熱室的試樣流路將內徑不同的多個流路連接而成。
7.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述離子化探測器和上述加熱室的至少一方被驅動部直線驅動。
8.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述加熱室以固定點為中心進行旋轉移動。
9.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
從上述加熱室向形成于上述離子化探測器的出口端附近的離子化區域送出加熱氣體。
10.根據權利要求1所述的離子源,其特征在于,
上述加熱室的全長較短且上述試樣流路曲折,
上述離子化探測器固定且上述加熱室可動。
11.一種質量分析裝置,其特征在于,具有:
對試樣進行離子化的離子源;
具有導入被上述離子源離子化的試樣離子的離子導入口,并對從上述離子導入口導入的離子進行質量分析的質譜儀;以及
控制部,
上述離子源具備用于將試樣噴霧的離子化探測器、在內部具備試樣流路并用于對通過上述試樣流路的試樣進行加熱氣化的加熱室、以及用于使上述離子化探測器的出口端與上述加熱室的入口端之間的距離變化的驅動部,
通過上述控制部對上述驅動部進行控制,使上述離子化探測器以及/或者上述加熱室相對于上述質譜儀的上述離子導入口的位置關系變化,由此單獨地實施多個離子化法,
上述控制部以如下方式對上述驅動部進行控制,使用了上述離子化探測器的離子化法的試樣離子化區域或者使用了上述離子化探測器和上述加熱室的離子化法的試樣離子化區域位于上述質譜儀的上述離子導入口的附近,
上述驅動部控制上述離子化探測器以及/或者上述加熱室,使上述離子化探測器的出口端和上述加熱室的入口端位于上述離子導入口附近,或者使上述離子化探測器的出口位于上述加熱室的入口端,上述加熱室的出口端位于上述離子導入口附近。
12.根據權利要求11所述的質量分析裝置,其特征在于,
上述多個離子化法為ESI和APCI或者ESI和APPI,
就上述控制部而言,在ESI模式中對上述驅動部進行控制,以配置為在上述離子化探測器的出口端與上述質譜儀的上述離子導入口之間不存在上述加熱室,在APCI模式或者APPI模式中對上述驅動部進行控制,以配置為在上述離子化探測器的出口端與上述質譜儀的上述離子導入口之間存在上述加熱室。
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