[發明專利]EUV成像設備有效
| 申請號： | 201480033769.1 | 申請日： | 2014-06-05 |
| 公開（公告）號： | CN105324721B | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發明（設計）人： | J.庫格勒;S.亨巴徹;M.施密德 | 申請（專利權）人： | 卡爾蔡司SMT有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G02B7/182 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 邱軍 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學元件 致動器 參考結構 成像設備 自保持 致動 | ||
1.一種EUV成像設備(100)，包含：
參考結構(250,400,500)；
第一光學元件(215)，其借助于第一致動器(205)相對所述參考結構(250,400,500)是可致動的，該第一致動器(205)為半主動控制的自保持致動器；以及
第二光學元件(315)，其借助于第二致動器(300)相對所述參考結構(250,400,500)是可致動的，該第二致動器(300)為非自保持致動器，其中借助于控制循環主動控制該第二致動器(300)。
2.如權利要求1所述的EUV成像設備，其中，該第一光學元件(215)在近瞳布置中。
3.如權利要求1所述的EUV成像設備，其中，該第二光學元件(315)在近場布置中。
4.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第一光學元件(215)安裝于第一支撐結構(425)上，該第一支撐結構附接至該參考結構(250,400,500)；以及
其中，該第二光學元件(315)安裝于第二支撐結構(435)上，該第二支撐結構附接至該參考結構(250,400,500)。
5.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，還包含：
至少一個反作用體(400)，補償在該第二光學元件(315)的致動期間所產生的力。
6.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第一光學元件(215)安裝于第一支撐結構(425)上，該第一支撐結構附接至該參考結構(250,400,500)；以及
其中該第二光學元件(315)安裝于第二支撐結構(535)上，該第二支撐結構機械地與該參考結構(250,400,500)分離。
7.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該EUV成像設備配置為以規則的間隔、或作為對外部信號的響應而致動該第一致動器(205)，從而校正其位置；以及
借助于控制循環，連續地校正該第二致動器(300)的位置。
8.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第一致動器(205)為壓電致動器、磁致伸縮致動器或線性馬達。
9.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第二致動器(300)為洛倫茲致動器。
10.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第一光學元件和該第二光學元件(215，315)為反射鏡元件。
11.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該第二光學元件(315)的光學敏感度大于該第一光學元件(215)的光學敏感度。
12.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，還包含：
第一傳感器裝置(235)，其直接在該第一光學元件(215)上確定該第一光學元件(215)的位置。
13.如權利要求12所述的EUV成像設備，其中，該第一光學元件(215)的位置作為定位該第二光學元件(315)的參考。
14.如權利要求12所述的EUV成像設備，還包含：
第二傳感器裝置(335)，確定該第二光學元件(315)的位置；
其中，該第一傳感器裝置(235)配置為以特定時間間隔、或作為對外部信號的響應來確定該第一光學元件(215)的位置，且該第二傳感器裝置(335)配置為連續地確定該第二光學元件(315)的位置。
15.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該EUV成像設備為EUV光刻設備(100)。
16.如權利要求1到3中任一項所述的EUV成像設備，其中，該EUV成像裝置為掩模度量設備。
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