[發(fā)明專利]用于優(yōu)化光學表面的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480033337.0 | 申請日: | 2014-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN105283798B | 公開(公告)日: | 2019-02-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | F·穆拉多雷 | 申請(專利權)人: | 依視路國際公司 |
| 主分類號: | G02C7/02 | 分類號: | G02C7/02;G02C13/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 陳華成 |
| 地址: | 法國沙*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 優(yōu)化 光學 表面 方法 | ||
用于優(yōu)化光學表面的方法,包括:?初始光學表面提供步驟,?工作光學表面定義步驟,在該步驟過程中,將工作光學表面定義為等于該初始光學表面,?第一表面代價函數(shù)提供步驟,在該步驟過程中,提供該表面的n階導數(shù)的第一表面代價函數(shù),?表面代價函數(shù)集提供步驟,在該步驟過程中,提供一個表面代價函數(shù)集,該表面代價函數(shù)集是多個求值區(qū)上的至少一個判據的函數(shù),?全局表面代價函數(shù)求值步驟,在該步驟過程中,對等于之前這些代價函數(shù)的加權和的一個全局表面代價函數(shù)進行求值,?修改步驟,在該步驟過程中,修改該工作表面,其中,重復該求值步驟和該修改步驟以便使該全局表面代價函數(shù)最小化。
技術領域
本發(fā)明涉及一種由計算機裝置實施用于優(yōu)化光學鏡片的至少一個光學表面的方法。
背景技術
對本發(fā)明的背景的討論包括于此以解釋本發(fā)明的上下文。這將不被認為是承認所引用的任何材料被公開、已知或者是權利要求書中的任一項權利要求的優(yōu)先權日下的公共常識的一部分。
光學鏡片典型地是由塑料或玻璃材料制成并且通常具有兩個相反的表面,這些表面彼此合作以提供所需的矯正處方。這些相反的表面的形狀和位置決定了光學鏡片的光學功能。
通常使用優(yōu)化方法確定每個光學表面的形狀。只要一組選擇的判據達到或接近目標值,已知的優(yōu)化方法就得到發(fā)展。
隨著個人化光學鏡片的發(fā)展,有待考慮的判據的數(shù)量增加了并且優(yōu)化方法所需要的資源與優(yōu)化方法所需要的時間一起也增加了。
此外,發(fā)明人已觀察到用已知的優(yōu)化方法獲得的表面可能尤其在經優(yōu)化的光學表面的周邊上呈現(xiàn)許多的曲率變化。
因此,需要一種允許考慮大量判據并且提供光滑表面的優(yōu)化方法。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目標是提供這樣一種優(yōu)化方法。
根據本發(fā)明的第一方面,提供了一種由計算機裝置實施用于優(yōu)化光學鏡片的至少一個光學表面的方法,該方法包括:
-光學表面參數(shù)提供步驟,在該步驟過程中,提供對有待確定的光學表面進行定義的至少一個參數(shù),
-第一表面代價函數(shù)提供步驟,在該步驟過程中,提供第一表面代價函數(shù),該第一表面代價函數(shù)是由該至少一個參數(shù)定義的該表面的n階導數(shù)的函數(shù),其中,n是大于或等于2的整數(shù),
-表面代價函數(shù)集提供步驟,在該步驟過程中,提供表面代價函數(shù)集,該表面代價函數(shù)集中的每個表面代價函數(shù)是由該至少一個參數(shù)定義的該表面的一個求值區(qū)上的至少一個判據的函數(shù)并且該表面代價函數(shù)集包括至少一個代價函數(shù),
-光學表面參數(shù)確定步驟,在該步驟過程中,確定使全局表面代價函數(shù)最小化的該至少一個光學表面參數(shù)的值,該全局表面代價函數(shù)是該第一表面代價函數(shù)與該表面代價函數(shù)集中的每個表面代價函數(shù)的加權和。
有利地,通過使用該第一代價函數(shù),根據本發(fā)明的方法允許提供光滑表面。此外,通過在多個求值區(qū)上定義表面代價函數(shù)集,根據本發(fā)明的方法避免了必須在整個表面上定義判據而僅在這些求值區(qū)上進行定義。
根據可以單獨或組合考慮的進一步的實施例:
-在該光學表面參數(shù)提供步驟過程中,提供該至少一個參數(shù)的初始值,定義一個初始光學表面,
-該方法進一步包括:
-一個工作光學表面定義步驟(S12),在該步驟過程中,將一個工作光學表面(Li)定義為等于該初始光學表面(L0)的至少一個部分,
-全局表面代價函數(shù)求值步驟(S41),在該步驟過程中,對該全局表面代價函數(shù)進行求值,
-修改步驟(S42),在該步驟過程中,修改該工作表面,
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