[發明專利]借助放大結構上的選擇性沉積和結合的測定增強

在審

• 申請號: 201480028698.6
• 申請日: 2014-03-15
• 公開（公告）號: CN105209884A
• 公開（公告）日: 2015-12-30
• 發明（設計）人: S·Y·周
• 申請（專利權）人: 普林斯頓大學理事會
• 主分類號: G01N21/63
• 分類號: G01N21/63;G01N21/27
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所 11494
• 代理人: 羅天樂

1.一種增強對與基片結合的分析物的檢測的方法，所述方法包括：

(a)獲得基片，所述基片包括位于該基片的表面上的信號放大層，其中該信號放大層包括高放大區域和低放大區域，且其中所述高放大區域比所述低放大區域更多地放大所述表面處的信號；

(b)選擇性地改性所述基片的低放大區域和/或高放大區域，由此增加分析物與高放大區域結合的概率和/或降低分析物與低放大區域結合的概率；

由此改進檢測所述分析物的靈敏度和/或其他感測特性。

2.權利要求1的方法，其中選擇性地改性包括將掩蔽材料沉積到低放大區域上，以減少捕捉劑結合。

3.任一前述權利要求的方法，其中選擇性地改性包括將粘附材料沉積到高放大區域上，以增加捕捉劑結合。

4.任一前述權利要求的方法，其中選擇性地改性包括改變低放大區域的表面化學特性，以減少捕捉劑與低放大區域的結合。

5.任一前述權利要求的方法，其中選擇性地改性包括改變高放大區域的表面化學特性，以增加捕捉劑與高放大區域的結合。

6.任一前述權利要求的方法，其中改性包括陰影沉積。

7.任一前述權利要求的方法，其中改性包括從相同沉積角度或多個不同沉積角度進行多次陰影沉積。

8.任一前述權利要求的方法，其中選擇性地改性是通過掩蔽低放大區域完成的。

9.權利要求8的方法，其中掩蔽是使用PMMA、聚苯乙烯、嵌段共聚物、二氧化硅或氮化硅完成的。

10.任一前述權利要求的方法，其中所述方法還包括將捕捉劑附接于高放大區域，其中該捕捉劑選擇性地結合所述分析物。

11.任一前述權利要求的方法，其中所述分析物選自蛋白質、肽、DNA、RNA、核酸、小分子、細胞、和具有不同形狀的納米顆粒。

12.任一前述權利要求的方法，其中在目標分析物與所述高放大區域結合之前或之后，用標記物標記目標分析物。

13.任一前述權利要求的方法，其中被放大的信號為拉曼散射、色度、發光、熒光、電致發光、化學發光、和/或電致化學發光。

14.任一前述權利要求的方法，其中選擇性掩蔽增強下述的一者或多者：信號強度、感測信號譜、檢測限、檢測動態范圍、和感測的信號變化減少(誤差棒更小)。

15.任一前述權利要求的方法，其中所述檢測包括(a)測量在某一區域上的信號的總和，或(b)對圖像中某一區域中的各個結合事件進行計數，由此提供對所述樣品中的一種或多種分析物的量的估計。

16.任一前述權利要求的方法，其中所述信號放大層是D2PA。

17.任一前述權利要求的方法，其中所述信號放大層包括一個或多個金屬盤和顯著連續的金屬膜，其中所述金屬盤的主要部分與所述金屬膜是分開的。

18.權利要求17的方法，其中所述金屬盤具有選自以下形狀組的形狀：圓形、多邊形、金字塔形、橢圓形、長條形、或其任何組合。

19.權利要求17的方法，其中所述金屬盤與所述金屬膜分開的距離是0.5到30nm的范圍，并且所述盤的平均橫向尺寸在20nm到250nm的范圍。

20.任一前述權利要求的方法，其中所述信號放大層包括一個或多個金屬盤，所述金屬盤具有選自下組的形狀：圓形、多邊形、金字塔形、橢圓形、長條形、或其任何組合，其中所述盤的平均橫向尺寸在20nm到250nm的范圍，并且鄰近的盤之間的間隙在0.5到30nm的范圍。

21.任一前述權利要求的方法，其中所述高放大區域包括所述表面。

22.任一前述權利要求的方法，其中所述高放大區域是具備具有尖銳曲率的金屬納米結構的區域，或者兩個金屬結構之間的小間隙的區域。

23.任一前述權利要求的方法，其中所述選擇性掩蔽包括以朝向放大表面的一個方向沉積大致呈束的形式的掩蔽材料。

24.權利要求23的方法，其中，取決于掩蔽區域，所述方向與放大表面成不同的角度。