[發明專利]紅外線屏蔽片及其制造方法以及其用途

有效

• 申請號: 201480028201.0
• 申請日: 2014-05-16
• 公開（公告）號: CN105324689B
• 公開（公告）日: 2018-10-30
• 發明（設計）人: 原幸廣;有福達治;齋藤頌子;姜明辰;清柳典子
• 申請（專利權）人: 日本化藥株式會社
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;B32B7/02;C03C27/12;G02B5/22;G02B5/26
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 胡嵩麟;王海川

1.一種紅外線屏蔽片，其具備含有微粒的高折射率樹脂層和含有微粒的低折射率樹脂層交替層疊而得到的層疊膜；其特征在于，

至少一層所述低折射率樹脂層的在波長550nm處的折射率減去在780nm～2500nm的任意波長處的折射率而得到的值為0.1以上，

所述低折射率樹脂層在550nm以上且所述任意波長以下的任意波長處顯示出比所述高折射率樹脂層的折射率低的折射率，

所述高折射率樹脂層中含有的微粒的含有率相對于所述高折射率樹脂層整體為40重量％以上且95重量％以下，所述低折射率樹脂層中含有的微粒的含有率相對于所述低折射率樹脂層整體為40重量％以上且95重量％以下，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層中含有的微粒的平均一次粒徑或平均分散粒徑為300nm以下。

2.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，

所述高折射率樹脂層的在波長550nm處的折射率減去在780nm～1500nm的任意波長處的折射率而得到的值為0.1以下，

所述低折射率樹脂層的在波長550nm處的折射率減去在780nm～1500nm的任意波長處的折射率而得到的值為0.1以上。

3.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，

所述低折射率樹脂層在780nm～2500nm的任意波長處顯示出比所述高折射率樹脂層的折射率低的折射率，

至少一層所述高折射率樹脂層和/或至少一層所述低折射率樹脂層的在780nm～2500nm的任意波長處的光學厚度的QWOT系數為1.5以上。

4.如權利要求2所述的紅外線屏蔽片，其中，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層各自的表面電阻為1kΩ/□以上，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層的合計層數為3以上，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層各自的在780nm～1500nm的任意波長處的光學厚度為195nm～375nm。

5.如權利要求1～4中任一項所述的紅外線屏蔽片，其中，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層各自的表面電阻為1kΩ/□以上，

所述高折射率樹脂層和所述低折射率樹脂層的合計層數為4以上。

6.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，所述紅外線屏蔽片的可見光透射率為50％以上，霧度為8％以下。

7.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，至少一層所述高折射率樹脂層含有選自由氧化鈦、氧化鋯、氧化鉿、氧化鉭、氧化鎢、氧化鈮、氧化鈰、氧化鉛、氧化鋅、金剛石、硼化物及氮化物組成的組中的至少一種微粒。

8.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，至少一層所述低折射率樹脂層含有選自由氧化錫、氧化銦、氧化鋅及氧化鎢組成的組中的至少一種微粒。

9.如權利要求8所述的紅外線屏蔽片，其中，至少一層所述低折射率樹脂層含有選自由銻摻雜氧化錫、錫摻雜氧化銦、鎵摻雜氧化鋅、缺氧氧化鎢及銫摻雜氧化鎢組成的組中的至少一種微粒。

10.如權利要求8所述的紅外線屏蔽片，其中，至少一層所述低折射率樹脂層含有二氧化硅微粒。

11.如權利要求10所述的紅外線屏蔽片，其中，所述二氧化硅微粒為中空二氧化硅微粒。

12.如權利要求8所述的紅外線屏蔽片，其中，

至少一層所述低折射率樹脂層含有選自所述組中的至少一種非中空微粒，

至少一層所述低折射率樹脂層含有中空微粒。

13.如權利要求1所述的紅外線屏蔽片，其中，所述紅外線屏蔽片還具有選自由膽甾型液晶膜、雙折射多層膜及紅外線吸收色素組成的組中的至少一種。