[發明專利]從水性溶液中除去氯胺和汞在審
| 申請號： | 201480014578.0 | 申請日： | 2014-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN105102377A | 公開（公告）日： | 2015-11-25 |
| 發明（設計）人： | 馬克·R·斯托弗;梅雷迪思·M·多伊勒;安格拉·M·莫雷諾;埃里克·C·彭伯頓;艾倫·R·西德爾 | 申請（專利權）人： | 3M創新有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/68 | 分類號： | C02F1/68;C02F1/28;C02F1/58 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 王靜;丁業平 |
| 地址： | 美國明*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 水性 溶液 除去 | ||
1.一種從水性溶液中除去氯胺和汞的方法，所述方法包括：
提供包含氯胺和汞的水性溶液；以及
使所述水性溶液與包含多孔碳基質的介質接觸，其中所述多孔碳基質包含至少1.5質量％的硫。
2.根據權利要求1所述的方法，其中所述多孔碳基質主要為微孔的。
3.根據權利要求1所述的方法，其中所述多孔碳基質的表面包含COxSy物質，其中x不超過0.1，并且y為0.005至0.3。
4.根據權利要求1所述的方法，其中所述多孔碳基質還包含氮，并且所述硫與氮的總和為至少4.0質量％。
5.根據權利要求1所述的方法，其中所述多孔碳基質為活性炭。
6.根據權利要求1所述的方法，其中基于XPS表面分析，至少0.2質量％的所述介質包含處于高于0的氧化態的硫。
7.根據權利要求1所述的方法，其中所述介質的體密度大于0.6g/cc。
8.根據權利要求1所述的方法，其中所述介質的灰分含量小于3％。
9.一種從水性溶液中除去有機化合物的方法，所述方法包括：
使包含至少0.5ppm的氯胺和汞的水性溶液與包含具有至少1.5質量％硫的多孔碳基質的介質接觸，以及收集所述洗出液，其中所述洗出液包含小于0.1ppm的氯胺。
10.一種方法，所述方法包括：
提供通過對(i)碳載體的表面和(ii)包含硫的反應物化合物進行熱處理而制備的介質；以及
使所述介質與包含氯胺和汞的水性溶液接觸，
其中在與所述介質接觸之后，所述水性溶液具有減少量的氯胺和減少量的汞。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于3M創新有限公司，未經3M創新有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480014578.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：玻璃板及玻璃板的制造方法
- 下一篇：片材供給裝置和成像設備
