[實用新型]半導(dǎo)體器件以及半導(dǎo)體封裝體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420870779.8 | 申請日: | 2014-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN204441273U | 公開(公告)日: | 2015-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 欒竟恩 | 申請(專利權(quán))人: | 意法半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/13 | 分類號: | H01L23/13;H01L23/31;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 王茂華 |
| 地址: | 新加坡*** | 國省代碼: | 新加坡;SG |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 以及 半導(dǎo)體 封裝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開的各個實施方式涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,并且更具體地涉及一種半導(dǎo)體器件以及半導(dǎo)體封裝體。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中的一些半導(dǎo)體器件中,需要將半導(dǎo)體裸片通過粘接材料安裝至襯底。圖1示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的包括這種半導(dǎo)體器件1000的半導(dǎo)體封裝體100。如圖1所示,半導(dǎo)體封裝體100包括半導(dǎo)體器件1000和用于封裝半導(dǎo)體器件1000的模制化合物9。在半導(dǎo)體器件1000中,第一半導(dǎo)體裸片1通過裸片附接膜3(DAF,全稱為Die?Attach?Film)和粘接膠4而粘接至襯底6,第二半導(dǎo)體裸片2通過導(dǎo)電粘接層5而粘接至襯底6。此外,第一半導(dǎo)體裸片1和第二半導(dǎo)體裸片2還均通過焊線7連接至引線8。
在圖1所示的實施方式中,DAF3和粘接膠4用于將第一半導(dǎo)體裸片1粘接至襯底6以及提供在第一半導(dǎo)體裸片1與襯底6之間的隔離。然而,第一半導(dǎo)體裸片1和襯底6之間的這種粘接方式存在多個方面的問題。例如,由DAF3和粘接膠4所提供的電氣隔離的可靠性差,因而在第一半導(dǎo)體裸片1與襯底6之間存在發(fā)生短路的風(fēng)險。此外,由于DAF3和粘接膠4均為軟質(zhì)材料,在采用熱超聲來安裝焊線7時容易產(chǎn)生共振,從而導(dǎo)致焊線7與第一半導(dǎo)體裸片1和引線8二者之間的連接穩(wěn)定性差。
實用新型內(nèi)容
本公開的目的包括提供一種半導(dǎo)體器件以及半導(dǎo)體封裝體,以至少部分解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述問題。
根據(jù)本公開的一個方面,提供一種半導(dǎo)體器件,包括:半導(dǎo)體裸片;硬質(zhì)隔離層,形成于所述半導(dǎo)體裸片的表面上;襯底;以及非導(dǎo)電粘接層,位于所述硬質(zhì)隔離層與所述襯底之間,以用于將所述硬質(zhì)隔離層粘接至所述襯底。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述半導(dǎo)體裸片包括接合焊盤,所述接合焊盤位于所述半導(dǎo)體裸片的與所述表面相對的另一表面處。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述半導(dǎo)體器件還包括引線,所述引線通過焊線連接至所述接合焊盤。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述半導(dǎo)體器件還包括:另一半導(dǎo)體裸片;以及導(dǎo)電粘接層,用于將所述另一半導(dǎo)體裸片粘接至所述襯底。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述非導(dǎo)電粘接層包括裸片附接膜或粘接膠。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述硬質(zhì)隔離層為模制的層或旋涂的層。
根據(jù)本公開的另一方面,提供一種半導(dǎo)體封裝體,包括:如上所述的任意一種半導(dǎo)體器件;以及模制化合物,被布置為封裝所述半導(dǎo)體器件。
根據(jù)本公開的又一方面,提供一種用于制造半導(dǎo)體器件的方法,包括:提供半導(dǎo)體晶片;在所述半導(dǎo)體晶片的表面上形成硬質(zhì)隔離層;將裸片附接膜粘附至所述硬質(zhì)隔離層;切割所述半導(dǎo)體晶片、所述硬質(zhì)隔離層和所述裸片附接膜以形成單片化結(jié)構(gòu),每個所述單片化結(jié)構(gòu)包括半導(dǎo)體裸片;以及將所述單片化結(jié)構(gòu)通過所述裸片附接膜粘接至襯底,其中所述裸片附接膜位于所述硬質(zhì)隔離層和所述襯底之間。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,在所述半導(dǎo)體晶片的所述表面上形成所述硬質(zhì)隔離層包括:通過模制或旋涂工藝在所述半導(dǎo)體晶片的所述表面上形成所述硬質(zhì)隔離層。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述方法還包括:將另一半導(dǎo)體裸片通過導(dǎo)電粘接層粘接至所述襯底。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述半導(dǎo)體裸片包括接合焊盤,所述接合焊盤位于所述半導(dǎo)體裸片的與所述表面相對的另一表面處,并且其中所述方法還包括:提供引線;以及通過焊線將所述引線連接至所述接合焊盤。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述方法還包括:利用模制化合物進(jìn)行封裝以形成封裝體。
根據(jù)本公開的又一方面,提供一種用于制造半導(dǎo)體器件的方法,包括:提供半導(dǎo)體晶片;在所述半導(dǎo)體晶片的表面上形成硬質(zhì)隔離層;切割所述半導(dǎo)體晶片和所述硬質(zhì)隔離層以形成單片化結(jié)構(gòu),每個所述單片化結(jié)構(gòu)包括半導(dǎo)體裸片;以及將所述單片化結(jié)構(gòu)通過粘接膠粘接至襯底,其中所述粘接膠位于所述硬質(zhì)隔離層和所述襯底之間。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,在所述半導(dǎo)體晶片的所述表面上形成所述硬質(zhì)隔離層包括:通過模制或旋涂工藝在所述半導(dǎo)體晶片的所述表面上形成所述硬質(zhì)隔離層。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述方法還包括:將另一半導(dǎo)體裸片通過導(dǎo)電粘接層粘接至所述襯底。
根據(jù)本公開的一個示例性實施方式,所述半導(dǎo)體裸片包括接合焊盤,所述接合焊盤位于所述半導(dǎo)體裸片的與所述表面相對的另一表面處,并且其中所述方法還包括:提供引線;以及通過焊線將所述引線連接至所述接合焊盤。
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