[實(shí)用新型]基坑側(cè)壁位移監(jiān)測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420857711.6 | 申請日： | 2014-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN204286365U | 公開（公告）日： | 2015-04-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 姜泓任 | 申請（專利權(quán)）人： | 姜泓任 |
| 主分類號： | G01B11/02 | 分類號： | G01B11/02;G01B11/16 |
| 代理公司： | 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 21212 | 代理人： | 范爍;李洪福 |
| 地址： | 116000 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基坑 側(cè)壁 位移 監(jiān)測 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測裝置，其特征在于包括：支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過第一轉(zhuǎn)軸安裝在基座上的豎向架、通過第二轉(zhuǎn)軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測距儀；所述豎向架能夠繞第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述橫向架能夠繞第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動；所述第一轉(zhuǎn)軸的軸線與所述第二轉(zhuǎn)軸的軸線垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測裝置，其特征在于所述基座上布設(shè)有以豎向架軸線為中心的圓形刻度盤。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測裝置，其特征在于在水平放置的橫向架上下兩側(cè)對稱設(shè)置有扇形刻度盤。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測裝置，其特征在于所述支撐框架包括一長方形底框和4個與底框平面垂直連接的立柱；所述立柱上端部連接所述基座。
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