[實(shí)用新型]磁控濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420823348.6
• 申請(qǐng)日: 2014-12-22
• 公開（公告）號(hào): CN204455277U
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐少東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種磁控濺射裝置。

背景技術(shù)

磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng)，高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向氣體分子轉(zhuǎn)移能量，使氣體分子電離，而高能電子本身則變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收，避免高能電子對(duì)極板的強(qiáng)烈轟擊，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起損傷的根源，體現(xiàn)磁控濺射中極板“低溫”的特點(diǎn)。

磁控濺射過程中，單位氣體分子的數(shù)量影響碰撞后高能電子轉(zhuǎn)化為低能電子的漂移路線，從而影響鍍膜的效果。為了保證鍍膜的均勻性，應(yīng)該使得鍍膜腔內(nèi)氣體分布均勻。

在卷繞鍍膜裝置中，柔性基材卷繞于鍍膜輥上，且柔性基材與鍍膜輥的中心軸之間存在相對(duì)的運(yùn)動(dòng)，以實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜。設(shè)置于鍍膜腔內(nèi)的陰極靶與鍍膜輥正對(duì)設(shè)置，在陰極靶的表面上方形成的正交電磁場(chǎng)位于陰極靶與鍍膜輥之間。設(shè)置于鍍膜腔內(nèi)的通氣管道沿卷繞柔性基材的寬度方向(鍍膜輥的中心軸)延伸，通氣管道位于正交電磁場(chǎng)的下方，且通氣管道靠近正交電磁場(chǎng)的管板上設(shè)有出氣孔。在磁控濺射過程中，向通氣管道內(nèi)通入氣體，氣體自出氣口進(jìn)入正交電磁場(chǎng)，高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向氣體分子轉(zhuǎn)移能量，使氣體分子電離，進(jìn)而在柔性基材上鍍上膜層。

在實(shí)際應(yīng)用中，柔性基材的寬度通常大于通氣管道的長(zhǎng)度，進(jìn)而導(dǎo)致柔性基材兩側(cè)邊附近的氣體較少，對(duì)于柔性基材而言，卷繞鍍膜裝置存在氣體分布不均勻的問題，進(jìn)而造成柔性基材兩側(cè)邊附近鍍膜不良，而切除這部分鍍膜不良的柔性基材給生產(chǎn)造成極大浪費(fèi)。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于此，有必要提供一種具有氣體分布均勻特點(diǎn)的磁控濺射裝置。

一種磁控濺射裝置，包括：

用于安裝柔性基材的鍍膜輥；以及

環(huán)繞所述鍍膜輥的鍍膜室，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有多塊隔板，所述多塊隔板將所述鍍膜室劃分為多個(gè)鍍膜腔，每一鍍膜腔朝向所述鍍膜輥的腔壁為鍍板，所述鍍板上設(shè)有鍍膜孔；

其中，每一鍍膜腔內(nèi)設(shè)有陰極靶、通氣管道及護(hù)罩，所述陰極靶與所述鍍膜輥正對(duì)設(shè)置，且所述陰極靶沿所述鍍膜輥的中心軸延伸，所述通氣管道位于所述陰極靶與一隔板之間，且所述通氣管道沿所述鍍膜輥的中心軸延伸，所述通氣管道靠近所述陰極靶的管壁為管板，所述護(hù)罩罩設(shè)于所述通氣管道上，且在所述鍍膜輥的中心軸方向上，所述護(hù)罩的長(zhǎng)度大于所述通氣管道的長(zhǎng)度，所述護(hù)罩位于所述通氣管道兩端之外的部分為延伸部，所述護(hù)罩靠近所述陰極靶的罩壁為罩板，所述罩板與所述管板之間形成氣流通道，所述管板上設(shè)有出氣孔，以使所述通氣管道與所述氣流通道連通，所述罩板上設(shè)有多個(gè)散氣孔，部分散氣孔位于所述兩個(gè)延伸部上。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，在所述鍍膜輥的中心軸方向上，所述護(hù)罩的長(zhǎng)度小于或等于所述鍍膜孔的開口寬度。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述多個(gè)散氣孔沿所述鍍膜輥的中心軸方向排列成一排，相鄰兩個(gè)散氣孔之間的間距相等。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述多個(gè)散氣孔沿所述鍍膜輥的中心軸方向排列成多排，每一排散氣孔包括若干散氣孔，每一排散氣孔中的部分散氣孔位于所述兩個(gè)延伸部，每一排散氣孔中的相鄰兩個(gè)散氣孔之間的間距相等，相鄰兩排排散氣孔中的相鄰兩個(gè)散氣孔之間的間距相等。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述散氣孔呈圓形或方形。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述出氣孔的數(shù)目為多個(gè)，所述多個(gè)出氣孔沿所述鍍膜輥的中心軸方向排列成一排，相鄰兩個(gè)出氣孔之間的間距相等。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述護(hù)罩包括頂板及設(shè)于所述頂板相對(duì)的兩側(cè)的側(cè)板，所述頂板即為所述罩板；

所述通氣管道朝向所述鍍板的管壁為第一板，所述通氣管道與所述第一板相對(duì)的管壁為第二板，所述兩側(cè)板分別與所述第一板及所述第二板間隔。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述罩板與所述隔板可拆卸連接。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述護(hù)罩包括頂板及設(shè)于所述頂板相對(duì)的兩側(cè)的側(cè)板，所述頂板即為所述罩板；

還包括螺釘或螺栓，每一側(cè)板相對(duì)的兩端的端面上設(shè)有分別設(shè)有凸耳部，所述凸耳部遠(yuǎn)離所述罩板的一側(cè)與所述側(cè)板遠(yuǎn)離所述罩板的一側(cè)齊平，所述凸耳部及所述隔板上分別設(shè)有螺紋孔，所述螺釘或所述螺栓穿設(shè)于所述凸耳部及所述隔板上。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述通氣管道包括多段支管道，所述多段支管道沿所述鍍膜輥的中心軸方向間隔排列，且每一支管道上開設(shè)有進(jìn)氣口。