[實(shí)用新型]基于分布式光源的輻射成像系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420804697.3
• 申請日: 2014-12-17
• 公開（公告）號: CN204422777U
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張麗;金鑫;唐華平;黃清萍;孫運(yùn)達(dá);陳志強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G01V5/00
• 分類號: G01V5/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，包括：

射線源，包括多個(gè)X射線發(fā)生器，所述多個(gè)X射線發(fā)生器分布在與被檢查物體的行進(jìn)方向交叉的一個(gè)或者多個(gè)平面上；

探測器模塊，包括多個(gè)探測單元，接收穿透被檢查物體的X射線；

數(shù)據(jù)采集電路，與所述探測器模塊耦接，將所述探測器模塊產(chǎn)生的信號轉(zhuǎn)換為探測數(shù)據(jù)；

控制器，與所述射線源、所述探測器模塊和所述數(shù)據(jù)采集電路連接，控制所述射線源中的所述多個(gè)X射線發(fā)生器的至少兩個(gè)X射線發(fā)生器輪流產(chǎn)生X射線，從而隨著被檢查物體的移動(dòng)而發(fā)出穿透所述被檢查物體，并且控制所述探測器模塊和所述數(shù)據(jù)采集電路，分別獲得與所述至少兩個(gè)X射線發(fā)生器相對應(yīng)的探測數(shù)據(jù)；

數(shù)據(jù)處理計(jì)算機(jī)，基于所述探測數(shù)據(jù)重建所述至少兩個(gè)X射線發(fā)生器的視角下的被檢查物體的圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述探測器模塊包括低能探測器和位于所述低能探測器后面的高能探測器。

3.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述射線源具體包括多個(gè)碳納米管X射線發(fā)生器或者多個(gè)磁約束X射線發(fā)生器。

4.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)X射線源中的至少一些能夠以切換的方式發(fā)出高能X射線和低能X射線。

5.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)X射線發(fā)生器設(shè)置在L形、倒L形、U形或弧形的支架上，向著所述探測器模塊發(fā)出X射線。

6.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述射線源包括第一排X射線發(fā)生器和第二X排射線發(fā)生器，分別在所述控制器的控制下以切換的方式產(chǎn)生高能X射線和低能X射線，并且所述探測器模塊包括并列設(shè)置的第一排探測器和第二排探測器，分別針對高能X射線和低能射X線做出響應(yīng)。

7.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)X射線發(fā)生器的分布模式為兩兩配對，匹配的兩個(gè)靶點(diǎn)在空間距離上接近，在出束順序上前后近鄰，其中一個(gè)采用第一種能量的高壓產(chǎn)生X射線，另一個(gè)采用第二種能量的高壓產(chǎn)生X射線。

8.如權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：物體邊界探測裝置，該裝置在物體通過掃描面之前對物體邊界進(jìn)行探測；其中根據(jù)探測到的物體邊界，以能夠?qū)崿F(xiàn)目標(biāo)物體的完整覆蓋進(jìn)行X射線發(fā)生器的選擇。