[實(shí)用新型]真空鍍膜設(shè)備用離子源系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420741584.3
• 申請日: 2014-12-02
• 公開（公告）號(hào): CN204401096U
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 單永賢
• 申請（專利權(quán)）人: 上海金科納米涂層技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/22
• 分類號(hào): C23C14/22
• 代理公司: 上海天協(xié)和誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31216
• 代理人: 張恒康

1.一種真空鍍膜設(shè)備用離子源系統(tǒng)，包括真空室，其特征在于：還包括轉(zhuǎn)盤、基片、擋板、轉(zhuǎn)軸、若干靶源、通氣孔和電源；轉(zhuǎn)盤位于真空室中心位置，其外部裝有基片，擋板設(shè)于真空室內(nèi)并通過轉(zhuǎn)軸將其與轉(zhuǎn)盤中心連接；靶源包括靶座和靶材，靶材設(shè)于靶座上部，靶材和通氣孔間隔設(shè)于真空室的內(nèi)壁四周；每個(gè)靶源通過單獨(dú)的電源連接控制。