[實用新型]一種高可靠性的倒裝LED芯片及其LED器件有效
| 申請號: | 201420586968.2 | 申請日: | 2014-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN204179102U | 公開(公告)日: | 2015-02-25 |
| 發明(設計)人: | 黃靚;吳金明;姜志榮;萬垂銘;曾照明;肖國偉 | 申請(專利權)人: | 晶科電子(廣州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/10 | 分類號: | H01L33/10;H01L33/12;H01L33/62 |
| 代理公司: | 廣州新諾專利商標事務所有限公司 44100 | 代理人: | 肖云 |
| 地址: | 511458 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 可靠性 倒裝 led 芯片 及其 器件 | ||
技術領域
本實用新型屬于LED技術領域,具體涉及一種高可靠性的倒裝LED芯片及其LED器件。
背景技術
倒裝LED芯片(FLIP?CHIP)是目前一種比較先進的大功率的芯片,該類芯片具有散熱好,集成度高,發光效率高等優點,同時是中下游白光芯片的主流結構,且下游工藝簡單,制作成本低,良率高。在進行封裝時,倒裝LED芯片直接通過表面凸點金屬層與基板相連接,不需要金線連接,因此也被稱為無金線封裝技術,具有耐大電流沖擊和長期工作可靠性高等優點。
傳統的倒裝LED芯片的制作工藝較為復雜,如圖1所示,包括以下步驟:(1)在襯底101上由下而上依次生成的第一半導體層102,有源層103,第二半導體層104;(2)沿第二半導體層104、有源層103的一端依次往下刻蝕到第一半導體層102中部形成臺階,使第一半導體層102部分裸露;(3)在第二半導體層104上表面中部制作接觸反射層105;(4)在接觸反射層105上表面以及第二半導體層104上表面兩端制作阻擋層106將接觸反射層105包覆;(5)在第一半導體層102的部分裸露表面以及阻擋層106的表面制作絕緣層107將步驟(2)中形成的臺階以及阻擋層部分包覆;(6)在第一半導體層102的裸露表面上制作第一電極108,在阻擋層106的上表面制作第二電極109,第一電極108可以分兩次制作以將其墊高至表面與第二電極109的表面處于同一平面,用于之后的倒裝焊接。
在此種結構中,工藝相對比較復雜,至少需要6步圖形工藝才能夠完成,同時由于需要控制芯片的電流分布以及散熱面積和發光面積的平衡,金屬凸點比較多并且分布也比較分散,對于后工序的焊接良率和電流分布都會影響較大。
為了解決上述部分的缺點,出現了貼片式的倒裝芯片(DA?FLIP?CHIP)的工藝,及通過圖形的再分布將凸點進行理想的分布,能夠直接進行兩大PAD的貼片,甚至可直接應用到了PCB基板領域,如圖2所示,包括以下步驟:(1)在襯底201上由下而上依次生成的第一半導體層202,有源層203,第二半導體層204;(2)沿第二半導體層204、有源層203的一端依次往下刻蝕到第一半導體層202中部形成臺階,使第一半導體層202部分裸露;(3)在第二半導體層204上表面中部制作接觸反射層205;(4)在接觸反射層205上表面以及第二半導體層204上表面兩端制作阻擋層206將接觸反射層205包覆;(5)在第一半導體層202的部分裸露表面以及阻擋層206的表面制作絕緣層207將步驟(2)中形成的臺階以及阻擋層全部包覆;(6)在絕緣層上開設安裝槽210,將阻擋層的上表面部分裸露;(7)在第一半導體層202的裸露表面沿著絕緣層制作第一電極208,在安裝槽210內制作第二電極109。與前一種工藝相比,在絕緣層制作之前的工藝一樣,在絕緣層分布上做了凸點圖形的再次分布,特別是第一電極和第二電極的圖形突破了下層半導體圖形的限制,第一電極跨越下層的圖形全部引至與第二電極的相平的表面,從而做到同樣的高度以及同樣的面積分布。
此種芯片的工藝同樣具有倒裝芯片比較主要的幾個問題:首先,工藝未有簡化;其次,倒裝芯片的反射層所用的金屬在使用狀態下易遷移,會導致后續的IR不良及可靠性異常,阻擋層就是阻擋所述金屬遷移的,以上的工藝會由于阻擋層在反射層臺階位置的覆蓋較差,導致無法完全阻擋金屬的遷移,且由于阻擋層本身屬性的問題,存在空洞率,金屬也會從上方空洞遷移;再次,由于絕緣層負責了凸點金屬再分布的絕緣問題,金屬會跨越半導體層臺階,絕緣層本身覆蓋性的問題會導致金屬短路,同樣嚴重影響了芯片的可靠性。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種高可靠性的倒裝LED芯片,使其反射層金屬以及裸露的半導體層被覆蓋和保護得更好,極大地提高了芯片在后續正常使用甚至是過載使用的可靠性。
為解決以上技術問題,本實用新型采用了以下技術方案:
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